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响应面法优化四氯化硅制备超细白炭黑工艺.pdf
第45卷第2期 无机盐工业
2013年2月 INORGANICCHEMICALSINDUSTRY 27
响应面法优化四氯化硅制备超细白炭黑工艺
郑典模·，周桂明，，卢钱峰·，朱实贵z
(1．南昌大学环境与化学工程学院，江西南昌330031：2．赣锋锂业股份有限公司)
摘要：以四氯化硅和水玻璃为原料．在单因素实验基础上，采用响应面优化工艺并建立数学模型，探讨水玻璃
质量分数、添加剂质量分数和反应温度各因素之间相互作用对白炭黑DBP吸收值的影响。确定了最佳工艺条件：
彬(水玻璃)=8．6％、叫(添加剂)=2．7％、水解温度为76℃。在此条件下，制得的白炭黑DBP吸收值为2．8067，与预测值
2．8011仅有0．005
6的误差，证明该模型具有较好的拟合度．能够真实地反映各实验因素对DBP吸收值的影响。
关键词：四氯化硅：响应面：超细白炭黑
文献标识码：A 文章编号：1006--4990(2013)02—0027—02
中图分类号：TQl27．11
of ofultrafinesilicafromsilicon
Optimizationpreparationtechnology
tetrachloridesurface
byresponsemethodology
Dianm01，Zhou Shigui2
Zheng Guimin91，LuQianfen91，Zhu
with
Abstract：Basedon ofultrafinesilica silicontetraehlorideandsodium
technology
single-factorexperiments，preparation
asraw surfaceandmathematicmodelwas oftheinteraction
silicate materialsWas established．Influences
optimizedbyresponse
as fractionofsodium fractionof reaction onDBPab-
ofvariousfactors．suchmass silicate，mass additive．andtemperature
valueofsilicawere conditionswereconfirmedasfollows：themassfractionofsodiumsilicate
sorption investigated．Theoptimum
ofadditivewas thereaction was76℃．TheDBP valueofsilica
was8。6％．themassfraction 2．7％。and temperature absorption
Was2．8067underthe conditions．withtheerrorof0．0056 withthe valueof2．8011．Itrevealed
optimum comparedpredict
thatthemodelhadbetter couldreflectth
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