RubreneTPD表面及其界面的AFM和XPS研究.pdf

冷重钱等：Rubrene／TPD表面及其界面的AFM和XPS研究 冷重钱，李海蓉，李 尧，高鹏杰 (兰州大学物理科学与技术学院，甘肃兰州730000) 摘要： 在indium—tin—oxide(ITo)玻璃上采用多源 蒸发的方法制备了红荧烯(Rubrene)／TPD样品。由 原子力显微镜(AFM)得到的表面形貌图显示Rubrene Rubrene和TPD的分子结构图。 膜具有良好的均匀性。利用X射线光电子能谱仪 (XPS)研究了两种材料表面和界面的电子态。由Ru- brene／TPD的表面分析可知，Cls精细谱中有3个峰， 最强的峰是由氧化造成的，而不是对应于芳香碳 (284．55eV)。空气中的02争H：0扩散到样品里形 成01s峰。用氩离子束溅射剥蚀表面，随着时同的增 Rubre舱 图l Rubrene和TPD的分子结构图 长，芳香碳对应的峰越来越强，282．45和289．62eV处 1 ThemolecularstructureofRubreneandTPD Fig 的峰则迅速消失，当溅射时间超过4920s时，在284． 2 7eV处引入了一个新的峰，对应于C～N键。01s峰实 验 迅速减弱是因为氧沾污的去除。N1s谱中的N—C键 用常规的真空蒸发沉积方法制备了Rubrene／ 缓慢增强，到达界面附近时峰的强度变得稳定。Cls， TPD样品。本实验中所有基底为覆盖有IT0膜的玻 N1S和01s谱中都有峰发生化学位移。， 璃片，该IT0膜的方块电阻为45Q／口。蒸发前对基 关键词： AFM；XPS；Rubrene／TPD表面及其界面； 片进行仔细地清洗：先用酒精棉球反复擦洗ITO玻璃 化学位移 数遍，再分别在丙酮、无水乙醇和去离子水中超声清洗 中图分类号：TN304．5；TB34文献标识码：A 20min，每次超声清洗完后都要用去离子水冲洗。然后 文章编号：1001-9731(2010)增刊lI-0349—04 放入烘烤箱中烘干，然后立即装片到真空腔室中。所 1 引 言 用镀膜机为SM-300B型真空镀膜机。采用多源蒸发 目前，在有机电致发光二极管(OLED)研究中，对 Rubrene到基片上，两种有机物在刚开始蒸发时蒸发 红绿蓝三原色OLED发光材料的研究受到广泛地关 速率都控制在尽量低的水平，以免对界面造成大的损 注，据市场调查，在被动式矩阵型的多色OLED显示害。 板产品中，黄色与蓝色的组合面板受到欢迎，日本三洋 柯达用天蓝加黄光的组合作为OLED白光光源[1]，黄 (16nm)的原子力显微镜获得。表面和界面电子态数 光材料的重要性由此可见一斑，对黄光材料研究十分 据用AXIS 迫切。Rubrene是最常使用的黄色发光材料之一，其 电子能谱仪采集。该光电子能谱仪的本底真空度优于 蒸发温度约为200℃[2]，具有较高的空穴迁