短波段光学减反膜的溶胶凝胶法制备及性能分析.pdfVIP

　第 16 卷 　第 10 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 16 ,No. 10 　 　2004 年 10 月 HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Oct. ,2004 　 ( ) 文章编号 : 　100124322 2004 1021281205 X 短波段光学减反膜的溶胶2凝胶法制备及性能分析 1 1 1 ,2 1 1 肖轶群 , 　沈 　军 , 　姚兰芳 , 　王 　珊 , 　杨 　帆 ( 1. 同济大学 波耳固体物理研究所, 上海 200092 ; 　2 . 上海理工大学 理学院 物理系, 上海 200093) ( ) 　　摘 　要 : 　随着大型激光器的发展 ,对短波段减反膜的要求日益提高 ,其中钕玻璃激光三倍频 355nm 的减 反射成为新的技术要点。采用溶胶2凝胶工艺合成 SiO 溶胶 ,采用提拉镀膜法制备纳米多孔 SiO 薄膜 ,薄膜厚 2 2 度为 75nm ,折射率控制在 1. 22 ,镀制在石英基底上的薄膜其 355nm 波长的反射率仅为 0. 2 % 。通过氨处理工艺 和薄膜的表面修饰 ,薄膜的抗磨擦性能和疏水性能大大提高 ,薄膜经过蘸有灰尘、乙醇的棉花球擦洗 20 次和 50 次后 ,透射率最大值仅分别降低 0. 13 % 和 0. 39 % ,与水珠的接触角达到 110°。 　　关键词 : 　溶胶2凝胶 ; 　减反膜 ; 　激光三倍频 ; 　疏水性 ; 　激光损伤阈值 　　中图分类号 : 　O484 　　　　文献标识码 : 　A 　　随着强激光系统的升级换代 ,对大口径高标准光学元件的需求量越来越大。激光技术的发展对光学元件 上的减反膜的要求日益提高 ,传统的光学薄膜镀膜工艺在制作成本和薄膜的抗激光损伤方面遇到了强有力的 挑战 , 同时由于在镀膜时的高温处理容易使元件变形 ,制造大尺度或形状不规则的元件时受到镀膜设备的限 ( ) 制 ,因此迫切需要寻找新的制膜工艺来满足新的需要。经过大量的实验研究 ,证明采用溶胶2凝胶法 Sol2Gel 制备光学薄膜是一种很有前途的新工艺[1 ] ,它具有薄膜微结构可控、折射率可调、减反射效果好、激光损伤阈值 高等优点[2 ] 。 　　利用溶胶2凝胶法制备 SiO 纳米颗粒减反膜在国内已有报导 ,然而由于当膜层厚度较薄时结构控制困难等 2 原因 ,短波段减反膜的化学法制备仍是一大难点。溶胶2凝胶法制备的 SiO 薄膜 ,是一种具有纳米尺度网络结 2 构的多孔膜[3 ] ,其胶粒表面存在大量的亲水性 OH 基团 ,使薄膜易于吸附空气中的水分[4 ] ,进而降