volt;,gt;laflt;,3gt;催化剂上光催化降解丙酮的研究.pdfVIP

摘要 VOx／LaF3催化剂上光催化降解丙酮的研究 摘要 以半导体材料为催化剂的光催化氧化技术已经受到了人们的密 切关注，广泛应用于气相或是水溶液中有机污染物的降解。因为嚣晚 具有化学稳定性和无毒性，Ti02和其它元素掺杂的Til02催化剂在光 催化降解污染物方面的研究受到更为广泛的注重。但是Ti02禁带较 宽(Eg≈3．2 nm)具有光催化活性，而照射到地面上的太阳能中紫外光的含量仅 仅占2％左右。因此为了有效利用太阳光，研究开发具有可见光催化 活性的光催化剂就成为当前光催化氧化技术中最为迫切的需求。 在本论文中，用溶液混合法制备了VOx／LaF3催化剂，并以丙酮 为模拟污染物，用气相色谱对产物进行分析检测，系统地研究了催化 剂中钒含量以及催化剂的焙烧温度对VOx／LaF3催化剂在可见光下光 催化氧化活性的影响。研究表明VOx／LaF3催化剂在可见光下对丙酮 降解具有较好的光催化活性。其中，673K温度条件下焙烧的16％ VOx／LaF3催化剂在可见光下降解丙酮的催化活性最好，丙酮的转化率 达到58。4％。 为了深入研究VOx／LaF3催化剂的结构和组成，采用X，射线衍射 收光谱(UV-Vis 系列催化剂进行了表征，通过分析比较催化活性，探讨了催化剂具有 VO，几aF3催化剂上光催化降解丙酮的研究 较高可见光催化活性的原因。 催化裁的毖表面积不是影响光催化活性的主要因素，物相结构才 是影响催化剂的光催化活性的关键因素。对VOx／LaF3催化剂进行的 v2侥雾羹LaV04两种形式存在尊低温焙烧的催化裁基本上壶v205和 LaF3构成，在嵩温下焙烧(高于673K)的催化剂中，v2毡会转化为 LaV04。紫外一可见吸收光谱表明，低温焙烧(723 K)的Vox／LaF3 催佬荆可以吸收波长小于600rgll光，即在可见光区有响应，实验证 明这些催化剂在可见光区具有光催化活性。而高温焙烧的催化剂的紫 外一可见吸收光谱的吸收边缘明显向低波段移动，这些催化剂在可见 光下不能有效降解丙酮。研究表明，高度分散在LaF3体相中的v2毡 是光催化活性物种，焉LaV04没有催化活性尊因隽V2侥具有较小的 eV)，在可见光的激发下就能引起电子的跃迁， 禁带宽度(Eg≈2．0 从两产生光生电子一空穴对。具有较大禁带宽度的LaF3物相对v205 物相有分离{乍用，从面对Ⅵ毡上产生的电子一空穴对产生分离作熏垂 这种分离作用阻碍了光生电子一空穴对的复合，延长了这些电子一空 穴对的寿命，使得氧化还原反应得以进行。 关键词：光催化剂，可见光催化降解，丙酮光降解，VOx／LaF3催化剂 摘要 ACETONE PHOTOC√姒LYTICDEGRADATIONOF 0VER CATALYST VOJLaF3 ABSTRACT The of hasattracted degradation photocatalytic organicpollutants inairandwater considerableattention the purifications．Sincenontoxicity andchemical of andothermetalion have stabil