ti-al-nti-al-v-n复合膜及ti-al-nvn多层膜的制备、微结构与性能研究.pdfVIP

摘要 摘 要 本论文采用反应磁控溅射制备了Ti-Al-N 复合膜、Ti-Al-V-N 复合膜和Ti-Al-N/VN 纳米结构多层膜，研究了Al 含量对Ti-Al-N 复合膜的微结构、力学性能、摩擦磨损性 能的影响；V 含量对 Ti-Al-V-N 复合膜的微结构及性能的影响；并研究了纳米多层膜 中调制周期Ti-Al-N/VN 多层膜结构与力学性能的影响，讨论了多层膜的致硬机理。研 究结果表明： Ti-Al-N 复合膜择优取向始终都是c-Ti-Al-N(111) 。随着Al 含量的增加，(111)强度 在减弱。Al 含量增加到57.92at.%时，出现了h-AlN(100)衍射峰。在Al 含量49.97at.% 时达到最大值27.05GPa ，分析认为显微硬度增加的主要原因主要是Al 原子取代Ti 原 子所引起的晶格畸变。Ti-Al-N 复合膜的高温抗氧化温度在900℃-950℃之间。室温下， 在Al 含量为49.97at.%时摩擦系数最低的0.7723,分析认为主要受硬度和韧性的影响； 高温800℃时，在Al 含量为39.51 at.%时摩擦系数达到最低的0.3792 ，在Al 含量较低 时薄膜氧化形成的Al O 润滑层，起到了固体润滑剂的作用。 2 3 Ti-Al-V-N 复合膜始终呈(111)面择优生长。Ti-Al-V-N 复合膜在V 含量为16.95at.% 时，其显微硬度达到了最大值31.67GPa，分析认为硬度升高主要是固溶强化作用的结 果。随着V 含量的逐渐增加，Ti-Al-V-N 复合膜的高温抗氧化性能在逐渐降低。在室 温时，在V 含量为16.95at.%时摩擦系数最小，为0.3864 。分析认为可能是摩擦过程中 发生摩擦化学反应生成的TiO2 的量的减少和硬度变化共同作用的结果。在高温650℃ 时，在V 含量为26.72at.%时摩擦系数最小，为0.2197 。分析认为在高温摩擦磨损过程 中生成的具有自润滑性能V O 是涂层拥有低摩擦系数的主要原因。 2 5 Ti-Al-N/VN 多层膜，多层膜始终沿(111)面择优生长。在调制周期为 6nm 时，多 层膜硬度达到最大值为33.12GPa 。关于多层膜的强化机理，分析认为Hall-Petch 效应 不起作用，模量差异强化不是主要原因，多层膜的硬度的升高主要是协调应变强化的 原因。 关键词：Ti-Al-N 复合膜，Ti-Al-V-N 复合膜，Ti-Al-N/VN 多层膜，显微结构，性能， 致硬机理 I Abstract Abstract Ti-Al-N composite films, Ti-Al-V-N composite films and Ti-Al-N/VN multilayer films were prepared by reactive magnetron sputtering technique. The effect of Al content on the microstructure, mechanical properties and friction and wear properties of Ti-Al-N composite films were investigated. The effect of V content on the microstructure properties of Ti-Al-V-N composite films investigated. Ti-Al-N/VN multilayer films microstructure and mechanical prop erties influenced by modulation periods, the mechanisms of hardening were investigated. The mai