化学机械抛光液行业报告-江苏中科物联网科技创业投资有限.PDF

化学机械抛光液行业分析报告 化学机械抛光液行业报告 版 本 日 期 备 注 V1.0 2011.5 0 / 26 化学机械抛光液行业分析报告 目录： 1 化学机械抛光液行业综述2 1.1 下游行业需求快速增长2 1.1.1 分立器件2 1.1.2 集成电路4 1.1.3 电子元器件7 1.1.4 总结8 2 CMP 抛光液及其发展趋势8 2.1 CMP8 2.1.1 CMP 概念及其重要性8 2.1.2 CMP 工艺原理9 2.1.3 CMP 工艺描述9 2.2 CMP 抛光液 10 2.2.1 CMP 抛光液及其作用 11 2.2.2 CMP 抛光液的分类 11 2.2.3 CMP 抛光液发展趋势 11 3 行业规模和成长性 12 3.1 行业规模 12 3.1.1 CMP 耗材与设备比较 12 3.1.2 市场规模 13 3.2 行业成长性 14 3.2.1 全球半导体市场预期良好 14 3.2.2 国内半导体市场发展前景向好 15 3.2.3 CMP 抛光液行业增长预测 16 4 行业竞争格局 18 4.1 国际市场 18 4.2 国内市场 18 4.2.1 安集微电子（上海）有限公司20 4.2.2 深圳市力合材料有限公司20 4.2.3 天津晶岭电子材料有限公司20 4.2.4 北京国瑞升科技有限公司20 4.2.5 总结21 5 行业成功关键要素或行业壁垒21 5.1 技术方面21 5.2 产能方面21 5.3 市场方面（客户）21 5.4 成本与服务方面22 6 替代性技术或产品出现的可能性22 7 环境污染问题22 8 产业扶持政策22 1 / 26 化学机械抛光液行业分析报告 化学机械抛光液行业分析 1 化学机械抛光液行业综述 全球半导体市场进入新一轮发展周期，2011 年到2014 年全球半导体市场持 续平稳增长。 化学机械抛光液 （CMP Slurry 简称“抛光液“）的研发、设计，生产，是 个技术准入门槛很高的行业，国际上主要被美国Rodel 公司、美国杜邦（DUPON） 公司、美国Cabot 公司、美国Eka 公司、Ferro、日本FUJIMI 公司、日本Hinomoto Kenmazai Co. Ltd、韩国ACE 高科技株式会社等所垄断。 08 年前，我国90%的抛光液需要进口，高精端抛光液如8 英寸、12 英寸芯 片用抛光液