模面粗度标准(2004.02.23).ppt

* * 彙整：顏泰華 日期：2004.02.23. 2004年教育訓練 模面粗度標準 大茂研发部 2004年大茂研发部教育訓練 模面粗度標準: Page.1/9 一、目的： 為使工程師對燈具各部分零件之模具粗度之採用有一可遵循的基準，進而讓成品品質處於最佳狀況。 ?? 二、範圍：凡本公司燈具種類均適用。 三、內容： 1. 鏡面加工注意點 (1)由粗粒砂逐步研磨到細粒砂，不可跳段。 (2)方向須與前次研磨方向成直角。 2004年大茂研发部教育訓練 模面粗度標準: Page.2/9 (3)每段研磨工程須達到前工程磨紋消失為止。 (4)其研磨目的並不是去除痕跡或修正凹凸，而是在打光澤。 (5)研磨順序為: 2.附件： (1)附件一：模面粗度標準 2004年大茂研发部教育訓練 模面粗度標準: Page.3/9 A.適用燈種: 2004年大茂研发部教育訓練 模面粗度標準: Page.4/9 2004年大茂研发部教育訓練 模面粗度標準: Page.5/9 B.說明事項 a.（）部分依燈具外觀之需求，由開發工程師決定是否拋光。 b. 底座類模仁若有拋物面反射鏡功能，歸類為反射鏡類要求。 c. 其他未訂定之特殊規格，於模具仕樣書中另行規定。 d. 其他因外觀需要之特殊要求，另行訂定之。 e. 難加工之表片，於會簽仕樣書時，再另行決定處理方式。 f. 精光步驟： 粗磨→120＃→220＃→320＃→400＃→600＃→800＃→1000＃→1200＃→1500＃→1600＃? 2004年大茂研发部教育訓練 模面粗度標準: Page.6/9 （依機械加工時之素材表面細度選擇適當號數之砂輪開始研磨） 2004年大茂研发部教育訓練 模面粗度標準: Page.7/9 (1)實施鏡面加工作業時之注意事項： A.機械加工所得的精加工面盡量要平坦。 B.對前工程之研磨痕跡施以直角方向之研磨，亦即常使研磨痕跡都成十字狀改變90度方向之研磨。 C.應研磨至前工程之研磨痕跡完全消除為止，即完全去除前研磨粒痕跡後，移至次工程（細一號）研磨。若在此次工程之工作不完全時，在拋光後會留下針孔。 D.若有針孔時，應使用比針孔細粒之研磨紙去除。 2004年大茂研发部教育訓練 模面粗度標準: Page.8/9 E.用砥石研磨時，應選用軟質之砥石，且將砥石整修成研磨面之形狀後才開始作研磨。 F.中斷研磨，擬長時間擱置時，須將研磨面洗淨。並盡可能放置於乾燥之場所，並須作防銹措施。 G.布輪精磨拋光： (a)精磨拋光之目的為提高光澤，顯出光亮，並非為去除傷痕（針孔）或磨平凹凸而作之加工。 (b)拋光前研磨面的凹凸應盡量小且均勻，以期能在短時間內用輕微壓力，即可完成拋光工作。 2004年大茂研发部教育訓練 模面粗度標準: Page.9/9 (2)依鏡面精加工之用途區分為： A.蝕花加工對象 ? ＃300～＃600. B.電鍍（Ni,Cr）對象 ? ＃1000～＃3000. C. PVD、CVD對象 ? ＃5000以上. D.鏡面（外裝品） ? 依製品個別定之. Sheet3 Sheet2 Sheet1 加 工 方 式 磨 料 粒 度 車削及銑削 #180 #280 #320 #400 #600 #800 砂輪研磨 #800 #1000 #1200 砂紙研磨 鉆石粉音研磨 #1200 #1800 #3000 #8000 加 工 方 式 磨 料 粒 度 車削及銑削 砂輪研磨 砂紙研磨 鉆石粉音研磨 Sheet3 Sheet2 Sheet1 91，92，11，12，17，18 材質 底座 框 反、副反射鏡 燈殼 內套 反射片 手工 600# 　　母 手工600#(拋光) 手工1200#(拋光) 鑽石膏 3000#á 母 手工1200# 手工精光 1500# (不可拋光) 手工1000#(拋光) 鑽石膏 3000# 特殊規格 PP公 PC公 BMC公 PMA公 ABS公 91，92，11，12，17，18 材質 底座 框 反、副反射鏡 燈殼 內套 反射片 PP公 手工 600# 　　母 手工600#(拋光) PC公 手工600#(拋光) 手工600#(拋光) 手工600#(拋光) 手工1200#(拋光) 手工120