热丝CVD沉积金刚石薄膜过程中的发射光谱研究.pdfVIP

澈兴与光电字学进展 52，103003(2015) Laser＆ 0ptoelectronicsProgress ~2015{中国激光》杂志社 热丝CVD沉积金刚石薄膜过程中的发射光谱研究 易 成 王传新 熊 江 范咏志 汪建华 马志斌 满卫东 王升高 武汉工程大学材料科学与工程学院，湖北省等离子体化学与新材料重点实验室，湖北 武汉 430073 摘要 发射光谱(OES)是对等离子体过程进行检测和诊断最常用 的方法 ，利用等离子体发射光谱 ，在 甲烷 H／#Ar和丙 酮／HJAr两种碳源体系下 ，对热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石薄膜过程进行了等离子体原位在线测量，研究了两 种碳源下等离子体 内部各基团种类、强度的差异，以及气压对丙酮体系中各种基团的强度影响。结果表明，两种碳源 下主要的基团种类基本相同，但基团谱线差异非常明显。丙酮体系中CH谱线最尖锐，并且无H。谱线，H随气压的增 加而减小 ，其他基 团均在3．5kPa附近 出现最大值 ；CH体系 中H谱线强度最大 ，出现H谱线 ；Ar基 团在两个体系 中 出现谱峰所对应波长不一样 ，其 中在丙酮系统中为433．36am，在CH体系 中为 794．8am。 关键词 薄膜；热丝化学气相沉积；金刚石薄膜；丙酮 ／氢气／氩气等离子体；发射光谱 中图分类号 O536 文献识别码 A doi：】0．3788／LOP52．103003 AnalysisofOpticalEm ission SpectroscopyinDiam ond ofH otFilam entChem icalVaporDeposition YiCheng WangChuanxin XiongJiang FanYongzhi W angJianhua MaZhibin ManW eidong W angShenggao ProvinceKeyLaboratoryofPlasmaChemistryandAdvancedMaterials，SchoolofMaterialsScienceandTechnology， Wuhaninstituteof Technology，Wuhan，Hubei430073，China Abstract Opticalemissionspectroscopy(OES)isaneffectivemethodforplasmameasuringanddiagnosing．OES isusedtot一situmeasurethehotfilamentchemicalvapordeposition(HFCVD)plasmaofacetone／HJArsystem and methane／HJAr，respectively．Thetype，intensityandtheinfluenceofcarbonsourceclasses，especiallythepressure foracetone／H#AronthespatialdistributioninHFCVDplasmaareinvestigated．Theresultsshow thatmaingroups arebasicallythesam eunderdifferentcarbon sources，butthedifferencesofspectraldistributionareobvious．In acetonesystem，theintensityofCH isthelargest，andthereisnoH2spectrallines．H linedecreaseswithincreasing thepressure，andothergroupshaveamaximum valueatneraly of3．5kPa．However，inmethanesystem，H2spectral lineisobviousandtheintensityofCH isthelargest．Argroupsintwosystem sappeardifferentlyinspectralpeak cOrrespOndingtothewavel