热丝化学气相沉积金刚石膜温度场的仿真模拟与应用.pdfVIP

第 26卷第 3期 中原工学院学报 Vo1．26 NO．3 2015年 6月 JOURNAIOFZH0NGYUAN UNIVERSITYOFTECHN0L0GY Jun．，2015 文章编号 ：1671—6906(2015)03—0064—04 热丝化学气相沉积金刚石膜温度场的仿真模拟与应用 黎韩琪 ，栗正新 ，苑执 中 (1．河南工业大学 材料科学与工程学院，郑州 450001；2．台钻科技有限责任公司，郑州 450016) 摘 要 ： 热丝化学气相沉积 (HFCVD)是大面积生长金刚石膜 的有效方法 ，在生长过程 中衬底温度 的高低和均匀性是 影响金刚石膜生长的关键因素。本文综述了国内外学者针对HFCVD法沉积金刚石膜的温度场模拟和优化工艺参数的 研究成果 ，指出了目前存在的问题 ，提 出了下一步 的发展方 向。 关 键 词 ： 热丝化学气相沉积 ；金刚石膜 ；温度场 ；模拟 ；综述 中图分类号 ： TQ164 文献标志码 ： A DOI：10．3969／j．issn．1671—6906．2015．03．015 热丝气相化学沉积 (HFCVD)是最早采用的生长 度场的仿真对实现金刚石膜优质高速的生长具有重要 金刚石膜的方法之一 ，生产成本低、设备简单 、生产过 意义 。 程容易控制、产品膜层质量好，是金刚石薄膜产业化发 展与应用的最有效的方法之一l1]。热丝法作为一种高 1 HFCVD法制备金 刚石膜温度场 速优质生长大面积金刚石薄膜的方法 ，受到了许多科 的仿真模拟 研工作者的关注 。 影响沉积膜质量的关键因素是衬底的温度场 ，温度 DebroyT等人最早开展了这项研究工作 ，他们建 场要有很好的均匀性和稳定性 ，才能获得较好 的沉积 立了一种轴对称的二维 HFCVD反应腔的数学模型，设 膜。HFCVD法生长金刚石膜分为两个过程：形核和生 长。在第一阶段中，碳源气体在热丝的辐照下被激发为 定流体为稳态流动状态，对流体运动学微分方程组求解 后，得出了反应腔内的温度场和流场分布 ，并在 自然对 含碳基团，然后沉积在衬底上形成金刚石晶核。但是这 些活化粒子或者含碳基团在衬底表面的扩散、聚合和形 流、强迫对流和扩散的情况下实验验证了它们对反应腔 核的临界尺寸直接受到衬底温度分布的影响，从而影响 温度场分布的影响_l7]。这些结论为后人提供了宝贵的 形核的均匀性。在第二阶段中，金刚石 晶核不断长大， 经验。由于他们建立的是二维模型，这也使得很长一段 直到覆盖整个衬底表面形成金刚石膜。在这个过程 中 时间内人们都在二维的基础上进行模拟。 衬底温度分布会对碳原子和氢原子的能量状态和分布 WoldenC等人认为高温离散热丝是反应气体分 产生影响_1j，从而进一步导致金刚石膜 的不均匀。同 解的唯一热源，他们对反应过程进行了简化 ，忽略了对 时，大量 的研究表明，衬底温度的高低和均匀性是影响 流和热传导 ，对衬底温度场进行 了模拟。他们设定热 金刚石膜生长最关键的因素_l2]。 丝数量为 3根，在不同传热机制下进行了模拟计算 ]。 由于 HFCVD整个系统 的传热过程十分复杂，要 他们的研究只考虑 了热辐射，不能真实反映 HFCVD 用实验测量的方法对衬底上的温度值进行分析是很难 反应腔 中的复杂传热过程。 实现的。所 以，对 HFCVD法生长金刚石膜的衬底温 GoodwinDG等人在建立温度场方程后 ，对动 度场和反应空间场进行模拟就