14马赫-曾德尔干涉仪开关解说.doc

第14课：马赫 - 曾德尔干涉仪开关（光BPM） 本课程概述了基于集成马赫 - 曾德尔干涉仪电光2×2开关的设计过程。 ? 电光开关是在集成光学纤维所用的设备。该装置是基于马赫 - 曾德尔干涉仪由钛扩散的铌酸锂基片制成。端口之间的切换是通过这样的结构中的电 - 光效应来实现。电压，施加到沉积在集成的Mach-Zehnder干涉仪的电极上，产生在基片内的电场分布，这进而改变其折射率。如果设计得当，则引起的变化的折射率导致各个端口之间不同的耦合。 ? ? 设计步骤 ? 的电路布局的CAD设计 电极区域的定义 一个输入字段和模拟运行的定义 ? 在您开始这一课 ? 熟悉在第1课的程序：入门。 ? 该程序是： ? 定义材料 创建钛扩散轮廓 定义晶圆 创建设备 限定电极区 限定所述输入平面和仿真参数 运行模拟 创建一个脚本 ? 该电路的CAD设计 ? 我们假设集成开关铌酸锂晶体的Z切的晶片上创建，并通过空气包层围绕。该设备是沿着铌酸锂晶体的Y光轴取向。因此，我们需要定义为在基片和介电材料为包层中的扩散材料。 ? ? 定义材料 ? 步 行动 1 打开在一个新的项目布局设计。的初始属性对话框出现。 2 单击配置文件和材料。该配置文件设计器中打开。 3 在配置文件设计，创建以下漫射材料：水晶名称：Lithium_Niobate水晶切割：?传播方向：? 4 创建下面的电介质材料：产品名称：空气折射率（回复）：1.0 ? ? 创建钛扩散轮廓 ? 的马赫 - 曾德尔干涉仪的波导是由钛的扩散的铌酸锂基片创建。我们将只需要一个钛扩散简介： ? 步 行动 1 在配置文件设计，创建以下配置文件：配置文件名 ??称：TiLiNbO3 Pro1的 2 选择I组面板横向扩散长度，输入3.5?深度扩散总长度，输入4.2 3 关闭配置文件设计的布局设计出现。 ? ? ? ? 图1：钛：LiNb03 Pro1的个人资料 ? ? ? 定义晶圆 ? 整个开关装置将是大约33毫米长，将不超过100微米宽。 ? 定义在该晶片以下参数布局设计： ? 步 行动 1 在初始属性对话框中，波导属性选项卡中，键入/选择以下内容：宽度[]：8.0?简介：TiLiNbO3 Pro1的 2 选择的晶圆尺寸选项卡，然后键入以下内容：晶圆长度：33000?晶圆宽度：100 3 选择2D晶圆属性选项卡，然后选择以下：晶圆折射率材料：Lithium_Niobate 4 选择3D晶圆属性选项卡，然后键入/选择以下内容：包层材料：空气包层厚度：2?基板-材料：Lithium_Niobate?基材厚度：10 5 单击OK（确定）以保存设置。 ? ? 创建设备 ? 提示：要查看整个基板，它可以是有用的改变显示比例（Z / X）的设置。要做到这一点，选择首选项??布局?选项??显示?比例和类型200。 ? 我们首先放下所需的开关的结构的基本波导元件。 ? ? ? 步 行动 1 在布局设计，创建下面列出的波导（见）： ? 波导名称 起始?位置 结束位置 SBendSin1 水平：0?垂直：-20 水平：5750?垂直：-7.25 Linear1 水平：5750?垂直：-7.25 水平：9000?垂直：-7.25 SBendSin2 水平：9000?垂直：-7.25 水平：11500?垂直：-16 Linear2 水平：11500?垂直：-16 水平：21500?垂直：-16 SBendSin3 水平：21500?垂直：-16 水平：24000?垂直：-7.25 Linear3 水平：24000?垂直：-7.25 水平：27250?垂直：-7.25 SBendSin4 水平：27250?垂直：-7.25 水平：33000?垂直：-20 ? 注意：您可以使用镜像和翻转操作的编辑??翻转和镜像功能表来建立设计。 ? 通过使用镜像选项打造顶级波导，请执行下列操作步骤在布局每个波导。 ? 2 选择布局上的波导。 3 选择编辑??翻转和镜像??镜顶部。波导被复制直接选择了一个以上。 4 在新的波导双击。出现属性对话框。 5 在水平和垂直字段中键入的x坐标。注意：为了使镜像对称的，每一个垂直坐标值必须是相反的符号到其原始波导对应。 ? ? ? 例子? ? 波导名称 起始位置 结束位置 SBendSin1（底波导） 水平：0?垂直：-20 水平：5750?垂直：-7.25 SBendSin5（顶部波导） 水平：30?垂直：20 水平：5750?，垂直：7.25 Linear1（底波导） 水平：5750?垂直：-7.25 水平：9000?垂直：-7.25 Linear4（顶