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第九章 半导体异质结构 Fermi level Law of the Junction I. Law of the Junction II. Summary PN junction Junction Capacitance I Junction Capacitance II Capacitance 异质结器件 异质结器件的发展过程 异质结结构的物理性质 当前的一些研究进展 pn结是组成集成电路的主要细胞，50年代pn结晶体管的发明及其后的发展奠定了现代电子技术和信息革命的基础。 1947年12月，巴丁﹐J.﹑W.H.布喇頓和W.肖克萊发明点接触晶体管。 1949年肖克莱提出pn结理论 ，也称为理想pn结的肖克莱方程： j=js(eqv/kt-1) 其中j=q(np0Dn/Ln+pnDp/Lp). 1957年，克罗默指出有导电类型相反的两种半导体材料制成 异质结，比同质结具有更高的注入效率。 1962年，Anderson提出了异质结的理论模型，他理想的假定 两种半导体材料具有相同的晶体结构，晶格常数和热膨胀系数，基本说明了电流输运过程。 1968年美国的贝尔实验室和苏联的约飞研究所都宣布做成了GaAs-AlxGa1-xAs双异质结激光器。 在70年代里，液向外延(LPE)，汽相外延(VPE)，金属有机化学 气相沉