介质阻挡放电准分子紫外辐射.pdfVIP

介质阻挡放电准分子紫外辐射 冯祥芬朱绍龙复旦走学电光源研究所(200433) 摘要介质阻挡放电(DBD，无声放电)可以用来撤发准分子，并产生真空紫扑辐 射、紫外辐射以及可见辐射。本文概括介绍了DBD放电可能激发的各种准分子辐射，包 括稀有气体双原子分子、卤素双原子分子、稀有气体一商索准分子以及汞一卤素准分子。 这些准分子在返回基态时．能够生成金俺半宽度约为1417nm的窄带紫外辐射，效率在 1-10％之间。DBD放电模式为研究准分子的反应动力学过程提供了一种简便、有效的方 法，也为犬规模工业应用提供了一种_f分具有应用前景的紫外光源。 关键词介质阻挡放电准分子紫外辐射 1引言 介质阻挡放电准分子紫外光源具有结构简单、容易制造，而且具有形式多 样可变，输出波长可以选择，波长覆盖面大，光效高、光谱纯等特点。这类新光 源的出现和发展将促使光化学、光物理过程在高技术产业中得到越来越多地应 用[1]。本文主要介绍了用介质阻挡放电方法可能生成的准分子辐射，其辐射波 长范围可以从真空紫外、紫外到可见区域，紫外效率在1-10％之间。 2准分子紫外辐射4I 2．1稀有气体准分子 早在1913年就有人观察到了氮放电的光谱．以后Hopfield对He+准分子进 行了研究，由Tanaka提出了无声放电稀有气体准分子的概念。准分子一词就被 用来描述没有稳定基态的而具有束缚的高能态的激发态分子。稀有气体准分子 的形成过程主要包括两步：首先是稀有气体N子-ag的激发．然后通过三体碰 撞形成准分子复合物： 芎+Rg—e+Rg’ (1) Rf+Rg+Rg。Rg，’+Rg (2) 第一步所要的电子能量至少要达到8～20eV，第二步只有在方程(2)的反应 速度超过任何消激发过程(比如辐射衰减或碰撞猝灭)的情况下才有可能发生。 由于第二步是三体碰撞反应，必须要在高气压下才能形成准分子。因此，形成 准分子的这两个条件必须在高气压非平衡放电条件下才能实现，也只有由许多 微放电组成的介质阻挡放电才可能满足这两个条件。 波长100nm以上的稀有气体准分子有氩、氪、氙准分子，图1是这几种稀 162 有气体的第二准分子光谱辐射，对应了第一激发态的一、三重态(‘互。■3羔。+) 到基态的跃迁过程，这些辐射波长的半宽度值约为lo～17nm。 在这些稀有气体准分子中，研究最多的还是氙准分子。已有不少文献用实 验和理论模型方法报导了氙准分子的形成过程i3-Sl。弱电离的氙等离子体的电 子能量分布函数可由玻尔茨曼方程求得，电子、离子、激发态的原子、分子的反 应过程可以用理论计算方法求解。在最佳的气体放电条件下，紫外辐射的效率 可以达到40％。 对于氙准分子光源，其辐射输出会随气压而变化。在气压较低时，激发态 的氙原子主要以自发辐射的跃迁方式跃迁到较低的激发态或基态： v(147nm) Xe+(3PJ)一Xe(1sJ+h (3) 在低气压下这些激发态产生的辐射(也称为共振辐射)很容易被较低的激 发态或基态原子吸收(称为辐射俘获)。 随着气压的增大，出现第一准分子光谱带辐射150nm。这是由氙准分子的 第一激发态中的高振动态(50。4)跃迁到基态产生的： v(150nm) (4) xe2’(’O。，+)一2Xe(1s9+h 继续增大气压，第二准分子光谱带172nlo辐射逐渐增大，占主要地位．这 是由于第一激发态的～、i重态(“’王。’跃迁到准分子的基态(乏●产生的： v(172nm) (5) xe2’(“～．．+)2Xe(EJ+h 从共振谱线§Ⅱ第一、第二准分子光谱带的辐射输出特征的变化也伴随着可 见放电模式的变化。低气压下，放电表现为貌似均匀的辉光放电。随着气压升 高，出现了许多连续的小的微放电。在高气压下，观察到的都是些明亮斑点的 微放电，甚至在有些气体混合物或者放电模式下．均匀的放电模式会完全消失。 对于固定间距的介质阻挡放电，各种放电模式的变化主要取决于气体混合物种 类、气压和放电激发频率。 22卤素