化学镀NiP合金耐蚀性的电化学研究.pdfVIP

…—— 些竺里竺：!竺皇!竺竺竺皇竺兰翌窒 一j堡 化学镀Ni—P合金耐蚀性的电化学研究 牛振江8，王赞华1，郁平。．李则林4，杜小光。 (a．浙江师范大学物理化学研究所，浙江，金华321004 b浙汀广播电视大学青田分校，浙江，青田323900 [摘要】 在乙酸盐缓冲体系中通过改变柠檬酸的浓度得到不同P含量的化学镀Ni—P台金镀层，应用Tafel曲线研究了不 同P含量的Ni—P镀层在3％Nacl、1 omol／LH：sO。、1 12o 溶液中，高磷镀层(P wt％)的腐蚀电位比中磷镀层(P 8．5wL％)的腐蚀电位更正，而在NaoH溶液中，高磷镀层的腐蚀电位比 中磷镀层的更负，但在二三种腐蚀介质中，高磷镀层的阳极腐蚀电流密度都低于或接近于中磷镀层。 [关键词]化学镀M—P台金塔菲尔曲线 ElectrocheIIlical ontheCorrosionResistance InVestigation ofEIectrolessNi—P AIloys Niu ze—lina，Du zhen—jianga，wangFei～huaa，Yu Pi“ga，u xiao—guangb 0f a．Ins石fufe N哪城l I)bysjcal ch咖is￡ry，zhejia”gu谢’re瑙i哆，Jinhua 321004，zhejiang BranchSch0010f Radi0＆Television b．Qin昏ian zhejiang universiti，Qingtian 323900，Zhejia“g Ni～Pelectr01ess Abstrad：Tho d6posits 8．5and12卅％were controlledthe containi“gphosphorus preparedby concen仃ation ofci研cacidinan8ee石cbath．耶lecorrosion oftheNi—P behaviors were 1孤l alloys investi即tedbv tests cun『es insoluⅡonsof moL／L H2S()4and1 0moL／LNaOH．‘rheresults 3％NaCl，1．O indicatethatthecorr08ion ofthe wi山P12 wt％aremore thanthat wit