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P-CVD基础;CONTENS;PCVD基础;能量损失因子;CVD (Chemical Vapor Deposition )化学气相沉积
借由气体混合物发生的化学反应,包括利用热能、电浆(Plasma)或紫外光照射等方式,在基板表面上(Substrate)表面上沉积一层固态化合物的过程
重要观念
经由化学反应或热分解
薄膜的材料源由外加气体供给
制程反应物必须为气相的形式
;分类;等离子体中的反应;非晶硅的生长原理;PCVD装置构造;To
Pump;Gas dissociation and combination;成膜基础;PCVD适用工程;PCVD适用工程;G-SiNx膜的膜质;a-Si;n+非晶硅;成膜检查项目和目的;成膜检查规格;工程管理技术;工程管理项目;不良项目;不良解析;工艺日常管理项目;工艺维护;工艺维护
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