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Ni2+对KDP晶体生长及缺陷影响的研究.pdf
人工晶体学报
第41 卷第5 期 Vol. 41 No.5
2012 年 10 月 JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS October ,2012
2
Ni + 对 KDP 晶体生长及缺陷影晌的研究
柴向旭,王 波,王圣来,孙沟,顾庆天,丁建旭,李毅平,许心光
(山东大学晶体材料国家重点实验室,济南 2501∞)
2 2
摘要:采用传统降温方法生长了不同 Ni + 掺杂浓度的 KDP 晶体。实验发现当 Ni + 掺杂浓度小于 1 ∞o ppm 时溶液
的稳定性随着掺杂浓度的增加而提高,大于 1 ∞o ppm 时溶液的稳定性开始下降,但仍高于纯态溶液的稳定性;随
2
着 Ni + 浓度的增加 KDP 晶体柱面的生长死区增加,柱面的生长速度略有下降,但在生长过程中没有观察到晶体的
2
模化;KDP 晶体的 XRD 分析及缺陷的研究表明 Ni + 对晶体的结构影响不明显,但晶体中的缺陷和内应力增加。
关键词:KDP 晶体;溶液稳定性;缺陷;内应力
文章编号:1ω0-985X(2012)05-1153..Q5
中图分类号:0781 文献标识码:A
Study 00 the Effects of Ni2 + 00 the Growth aod Defects of KDP Crystals
CHAI Xiαng-xu , W,却VG Bo , WANG Sheng-lai , SUN Xun , GU Qing-tian , DING ]ian-xu , II Yi-ping , XU Xin-♂ωng
(State Key Laboratory of Crystal Materials , Shandong University , Jinan 2501∞, China)
(Received 6 lune 2012 , accepted 4 luly 2012)
Abstract :In this papt!r , KDP crystals were grown with dífferent concentrations (0 ppm-2(则刀 ppm) of
Ni 2 + by traditional temperature cooling method. The result indicates that when the concentration of Ni2 + is
2
less than 1α)() ppm , the solution stability increases as the Ni + concentration increasing to some extent.
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