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Vol.26 高 等 学 校 化 学 学 报 No.4 年 月 2 0 0 5 4 CHEMICAL JOURNAL OF CHINESE UNIVERSITIES 599~602 硅基图案化TiO2 表面微结构的制备和表征 管 飞 陈 淼 张 瑞 梁 山 薛群基, , , , (中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室 中国科学院研究生院 兰州, , 730000D 摘要 结合微接触印刷术和TiO2 沉积成膜技术 在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的, TiO2 薄膜 并利用, , 和 对其表面性质和结构进行了表征 该硅基图案化. 2 微结构在光电转化~ XPS SEM AFM TiO 微机电和光催化等领域中的应用具有重要意义. 关键词 微图案 微接触印刷术; ; TiO2 微结构 中图分类号 43; 69 文献标识码 文章编号 0251-0790(2005D04-0599-04 TB O A 硅是半导体工业中最重要的材料 各种硅基器件构成了现代电子与信息产业的基石 从微电子学, . 的角度看, 硅基微结构的制备十分重要 在硅表面制备微结构的方法中 微接触印刷. , (Microcontact printing, 简称 CPD是一项很有发展前景的新方法 该方法是以. Whitesides 研究组为代表的多个研究 集体开创的一种使用高分子弹性 印章 和自组装单分子膜技术在基片膜上印刷微米和纳米量级图纹的 新技术[1~4]. 纳米薄膜是一种重要的功能材料 该薄膜作为一种宽带隙的 型半导体材料 因其, , TiO2 n 具有显著的光电响应 良好的化学稳定性和绿色环保性 在太阳能转换 光催化杀菌及污染物处理等~ , ~ 方面具有很好的的应用前景 近年来 关于这方面的研究工作越来越多 并在很多领域中得到了广泛. , , 应用[5,6]. 目前 国内外学者利用自组装成膜技术对在不同基底上制备, TiO2 薄膜进行了很多研究[7~9]. 例如, Shin 等[10~13]和Xiao 等[14~16]分别应用自组装成膜方法在单晶硅和载玻片表面制备出性能良好的 TiO2 薄膜. Masuda 等[17,18]利用紫外光刻蚀的方法获得图案化的羟基基底 然后在其表面选择沉积, TiO2 获得图案化薄膜 但其方法较为复杂 本文结合微接触印刷术和, . TiO2 沉积成膜技术设计了一种 工艺简单~ 经济的方法 在磺酸基表面沉积, TiO2 , 成功地制备了具有微米级的图案化薄膜 该微图案. 化薄膜将在微电子机械领域中具有广泛的应用前景. 1 实验部分 1.1 试剂与仪器 巯丙基三甲氧基硅烷 纯度 购自 公司 十八烷基三氯硅烷 纯度 3- (MPTSD( 99%, Aldrich D ; (OTSD( 购自 公司 制备 印章 用的 184(聚二甲基硅氧烷 D及其固化剂购自 98%, Aldrich D ; Sy