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真空紫外到深紫外波段基底材料的光学特性_薛春荣
21 2 Vol.21, No.2
2009 2 HIG H POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Feb., 2009
: 1001-4322(2009)02-0287-04
＊
1, 2, 3 2 2 2 2
薛春荣 , 易 葵 , 魏朝阳, 邵建达 , 范正修
(1. , 21 00; 2. , 201800;
3. , 230029)
: ,
, 120 ～ 00 nm ,
, 、、、 120 ～ 00 nm
, ,
, 。
: ; ; ; ;
: TB43 : A
, :,
。(VUV )(DUV )(100 ～300 nm ), ,
[1-6]
。, ,
、,。,
。,
。
1
1
。,
[7]
2 2 2 2 2 2
0
T =T a[1+a R +(a R )+…] =
2 2 2
T a/(1-a R ) (1)
:T,R ;a
,k
a =4πk/λ (2)
Fig.1 Diagrammatic sketch of beam through
T R ,
the w eak absorption substrate
n,k 1
2 2
T =4n/[(n +1)+k ] (3)
2 2 2 2
R =[(n -1)+k ]/[(n+1)+k ] (4)
2 4
:n n (λ)=A 1+A2/λ+A3 /λ;k k (λ)=A4 exp (A /λ)。
,, T0 (λ)=T (λ, A1 ,A2, A3 ,A4 ,A ),
T0 (λ), A1 ,A2,A3,A4 ,A ,n k 。
2
,,
。, Lambda900 (190 ～ 00 nm )
＊:2008-06-13; :2008-11-20
:
:(1972—), , , ;xcr163 @163.com。
288 21
(120 ～300 nm)100 ～ 00 nm T0 。Lambda900 ,
、,, 7 ～10 L/
min。,、。, ,
[8-10]
。
2.1
(JGS1), ,,
、。2 JGS1 160 ～ 00 nm 。
2 ,JGS1 180 ～ 00 nm ,,
,、、、。,,
;92%, 180 nm 。 3
。
2.2
(MgF2 )110 ～8 00 nm,、。4
。
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