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应用电泳沉积法於放电表面镜面抛光研究-中原大学机械工程学系
論
六年論
1 2 3 4 5
立
1 2 4
3
金
5
NSC89-2212-E-008-003
1996 年K. Takahata 利 Al O 粒
2 3
利 (Electrophoretic 100µm復 430µm 離
Deposition Method, EPD Method)來 來Micro-EDM[6]
輪 不 1998 年Y. Tani 利 SiO粒 行
2
良 [7] 1998 年Z. Haga
NaOH 來 SiO
力 粒 SiO
2 2
率落不 EPD 狀
參數輪 [8] 2004 年Y. Yamamoto 利
輪 率 來 SiO輪 來
2
Ra 3.4 nm [9] 2006 年T. Oshita
不行 粒
度量 狀
行 輪 輪
SiC 粒 粒 輪 輪易
0.9~1.5µm 行 EPD 輪 率落
度 Ra 1.67 µm(Rmax 10.11 µm) 降 [10] 利 力易
度 Ra 0.05 µm(Rmax 0.34 µm) 力度
粒易落
輪 數 粒
度
輪不
1. (SiC)
離例
零 輪 ()()
料流行 (EPD
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