应用电泳沉积法於放电表面镜面抛光研究-中原大学机械工程学系.PDF

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应用电泳沉积法於放电表面镜面抛光研究-中原大学机械工程学系

論 六年論 1 2 3 4 5 立 1 2 4 3 金 5 NSC89-2212-E-008-003 1996 年K. Takahata 利 Al O 粒 2 3 利 (Electrophoretic 100µm復 430µm 離 Deposition Method, EPD Method)來 來Micro-EDM[6] 輪 不 1998 年Y. Tani 利 SiO粒 行 2 良 [7] 1998 年Z. Haga NaOH 來 SiO 力 粒 SiO 2 2 率落不 EPD 狀 參數輪 [8] 2004 年Y. Yamamoto 利 輪 率 來 SiO輪 來 2 Ra 3.4 nm [9] 2006 年T. Oshita 不行 粒 度量 狀 行 輪 輪 SiC 粒 粒 輪 輪易 0.9~1.5µm 行 EPD 輪 率落 度 Ra 1.67 µm(Rmax 10.11 µm) 降 [10] 利 力易 度 Ra 0.05 µm(Rmax 0.34 µm) 力度 粒易落 輪 數 粒 度 輪不 1. (SiC) 離例 零 輪 ()() 料流行 (EPD

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