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萃取分离_ICP_MS测定高纯铝中痕量元素
第 28 卷第 12 期 分析试验室 Vol . 28. No . 12
2009 年 12 月 Chinese Journal of Analysis Laboratory 2009 - 12
萃取分离ICPMS 测定高纯铝中痕量元素
李爱嫦 , 刘 英 , 刘 红
(北京有色金属研究总院 , 北京 100088)
( )
摘 要 : 利用吡咯烷二硫代氨基 甲酸铵 APDC CHCl3 萃取分离体系结合 ICP
MS 对高纯铝中的Co 、As 、Mo 、In 、Sn 、Sb 、Cd 、Ag 、Pd 、Au 进行测定 , 建立了测
定高纯铝中痕量元素的方法 。实验分别考察了仪器工作参数 , 萃取酸度 , 络合
剂用量对于杂质元素测定结果的影响 , 选择了最佳实验条件 。各元素的回收率
在 77 . 6 %～112 . 2 %之间 , 检出限0 . 02～0 . 6 ngmL , RSD 为 1. 6 %～7 . 2 % 。
关键词 : ICPMS ; 高纯铝 ; 杂质
( )
中图分类号 : O657 . 63 文献标识码 : A 文章编号 : 2009 1209403
高纯铝具有许多优 良的性能 , 用途广泛 , 在 1 实验部分
电子工业及航空航天 , 原子能工业 、汽车制造 、交 1. 1 仪器与试剂
通运输等领域有着广泛的用途 。电感耦合等离子 Agilent 7500 series 质谱仪 。
( )
体质谱仪 ICPMS 因其检出限低 , 灵敏度高 , 干 ( )
APDC 溶液 : 10 mgmL 用时现配 ; CHCl3 、
扰少 , 多元素同时测定的优越性 , 已广泛地应用
( )
HCl 、HNO 均为优级纯 ; 氨水 MOS 级 ; H O
3 2 2
于高纯金属材料的分析[3～5 ] 。但是直接利用 ICP
( )
MOS 级 ; 水为去离子水 。
MS 对高纯铝中的杂质元素进行测定 , 基体铝会对
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