光罩（Photomasking）制程简介.PDF

光罩( Photomasking )製程簡介 作 者 ： 蘇 漢 儒 光罩( Photomasking )簡介 光罩的原理區分為兩個領域： 1.光罩的圖像可供轉印至晶片 表面。 2.經由光阻劑的感光作用，將 光罩的圖像轉印至晶片表面。 2 光罩( Photomasking )簡介 設計的電子電路經過實驗，驗證符 合需求，才能應用作為設計半導體 元件的電路圖。 將電子電路圖 ，繪製成為光罩圖 像 。 3 光罩( Photomasking )簡介 4 設計光罩( Photomasking ) 光罩設計步驟： 1.以2D 的繪圖方式，繪製幾何圖形 的電子電路圖 。 2. 滿足外部輸入及輸出信號連接，以 最小的面積設計每一個電子元件。 5 設計光罩( Photomasking ) 光罩設計步驟：(續) 3.將完整的幾何圖形電子電路圖 ， 依製程的需求，分別繪製成許多 層幾何圖形的電子電路圖 。 6 設計光罩( Photomasking ) 光罩設計步驟：(續) 4.將每一層繪製完成的幾何圖形電 子電路圖 ，用照相機拍攝縮影， 然後複製縮影的電路圖至玻璃板 。 7 設計光罩( Photomasking ) 光罩設計步驟：(續) 5.玻璃板上一格一格整齊排列 複製相同的縮影幾何電子電 路圖 ，此玻璃板為正方型 ， 其邊長依晶片的直徑而定。 8 設計光罩( Photomasking ) 光罩設計步驟：(續) 6.步驟5 之玻璃板稱為主板 ( Master Plate) 。 7. 使用主板複製次主板 ( Submaster Plate ) 。 9 設計光罩( Photomasking ) 光罩設計步驟：(續) 8.次主板稱為光罩，它係採用 感光玻璃板製成，光罩上面 的圖像可供轉印至晶片表面。 10 光 罩 11 照像平版印刷術( Photolithography ) 光阻劑是一種含感光懸浮物質的 液態化學品，它對水銀電弧燈所 產生的紫藍色光線具有感光作用 它對紅色及黃色光線不具有感光 作用，因此光罩室使用黃光照明 設備。