阴极刻蚀和覆膜的应用研究.pdfVIP

阴极刻蚀和覆膜的应用研究 马 静，王玉春，谢宏芳，谢启辉，陆为元 (三乐集团有限公司电子器件研究所江苏南京210009) of and ofcathode Studyetchingcoating Application MA chunXie XiehuiLuwci JingWangyu hongfang qi yuan SanleEleetronioes (Nanjing ApparatusInstitute，Nanjing210009,china) 摘要：本文阐述了刻蚀和涂覆的重要作脚．通过人譬的条件实验确定合适的刻蚀和覆膜．I： 艺及检验手段，进一步比较不同厚度、不同材料膜层的阴极发射性能的比较。 关键词：刻蚀；覆膜：覆膜阴极：发射性能 为了降低阴极的工作温度和在同样的工作温度下提高阴极的发射性能，国内外阴 极专家进行了大量的研究，研究发现，在浸渍钡钨阴极的表面覆盖一层厚度约0．5urn 的锇、铱、锇铱、锇钨的膜层，这类阴极称做M型阴极。虽然这些涂层金属和合金 的逸出功都比钨高，但是涂覆上述膜层后阴极的逸出功可以降低0．1～0．2电子伏，这 样在同样的电流密度时阴极工作温度可降低100度，蒸发率可降低一个数量级、寿命 可成倍增加【¨。 l刻蚀的优越性和刻蚀实验 既然覆膜阴极有如此优越的表现，那么关键就是如何能够制备质量优良的薄膜。 为了得到质量优良的薄膜，在覆膜自订必须要清洗阴极表面的污染物，也即要对阴极进 行严格的清洗，阴极表面的污染主要有以下几种： A、阴极机加工过后表面残留的颗粒和尘埃以及加工过后附着不牢的颗粒。 B、阴极机加工后表面的丌孔被钨粉堵塞。 C、阴极在生产流水过程中表面吸附的大量气体，这些气体如果不驱除；它会在 涂覆过程中大量放气，不利F膜层对基体的附着。 上述三条都对于阴极的发射性能有很大的影响，因为阴极表面的沾污等都不利于 膜层对基体的附着，要想得到与基体结合牢固的膜层，必须在涂覆前进行严格的清洁 处理。清除阴极表面污染的疗法有，化学清洗法、超声波清洗法、离子轰击法。由于 我们的阴极属于多孔钨基，而化学清洗法和超声清洗法都是在液体中进行【2】131，由于 钨基中已经浸渍了铝酸盐，水沈后严重影响阴极的发射性能，而且如果清洗后多孔钨 278 基里的残留液体不容易去除干净，也直接影响阴极的发射性能。所以我们采用离子轰 击法、真空烘烤法进行阴极表面清洁处理。离子轰击法即等离子刻蚀，是在真空设备 中，引入惰性气体，使其真空度保持在O．1～IPa范围内，在正负极上加一定的电压， 此时便在真空设备内产生直流辉光放电作用并产生等离子。受到电场加速的离子轰击 阴极的表面能溅射阴极表面的污染物和吸附的气体，离子轰击的结果能使整个阴极表 面去掉多个原子层的薄层，从而使阴极表面出现新鲜的、洁净的表面层14J。那么必须 合适的刻蚀深度，刻蚀太浅，表面清洗不干净，刻蚀太深，没有必要，所以急需摸索 合适的刻蚀深度和相关情况。基于上述考虑，我们从以下几个方面进行实验： A、摸索刻蚀电流、电压一定的情况下，刻蚀深度随刻蚀时间和刻蚀位置的变化 而变化的规律。 B、对于不同刻蚀深度的阴极表面成分进行成分分析对比， C、进行阴极表面刻蚀前后的形貌对比。 I．1摸索刻蚀深度随距离和位置的变化规律 采用表面包钽带的凸形阴极放入工作室内，距离圆形底板中心距离分别为0mm、 11．5mm、20mm的位置上，在一定的规范条件下．分别刻蚀不同时问，刻蚀后将样品表 面的钽皮去掉，对比钽皮挡住的部位和刻蚀后的表面形成的台阶的厚度，我们采用光 切显微镜进行测厚，数据如下表l，刻蚀深度随距离的变化关系曲线如图2，刻蚀深度 随刻蚀时1aJ的变化关系曲线如图3。 表l ＼距离 厚度＼ ＼＼＼