模具失效与维护陈志刚第四章课件4.4章节.pptVIP

4．4．2．4 PVD应用实例 例1 录音机磁头外壳拉深模的物理气相沉积处理 录音机磁头外壳形状为带有圆弧面的矩形。材料为厚度0.65mm的Fe-Ni奥氏体合金板材。采用拉深工艺成形。 拉探模具材料在国外使用WC基的硬质合金。由于采用了先进技术，日本同类模具的总寿命可达120万次，但国内同种模具使用寿命较低，主要失效形式为工作零件早期崩裂。如采用Cr12MoV钢制造的模具工作零件，其寿命不高，短的只有几千次，长的也不超过3万次，分析其原因是： （1）Cr12MoV钢碳化物偏聚严重，脆性大。 （2）磁头外壳材料的屈服点较高，拉深过程中易产生形变硬化，使模具受力增大。 （3）磁头外壳在成形过程中，由于是矩形拉探，圆角又比较小，致使模具棱边的局部应力很大。 （4）拉深时摩擦力很大，模具与零件表面易发生粘附，凸模棱边易桩咬伤，弧形端面边缘处易产生崩裂，侧面易磨损。 在采用YG20硬质合金制造模具工作零件时，模具寿命虽比Cr12MoV制造的模具寿命有所提高，但其表面仍易产生咬合和崩裂，如图4-60所示。 对YG20硬质合金模具工作零件进行PVD涂覆TiN处理，可大大提高模具的使用寿命，见表4-41。由表中数据可知，经PVD处理的模具寿命提高3倍以上。 例2 油开关精冲模具的PVD处理 油开关的零件材料为5mm的纯铜板，采用精冲工艺制造，其凹、凸模的形状如图4-61所示。 为了提高模具寿命，对凹、凸模进行了物理气相沉积TiN的处理，主要工艺如下：模具工作零件材料为C12MoV，在进行PVD处理前，先进行常规热处理，按图4-62和图4-63先后进行球化遇火、淬火、回火处理，回火后硬度为60～62HRC。 PVD处理在ATC400型（电SI型）设备上进行。镀膜前模具工作零件进行脱脂、干燥、蒸气清洗和漂洗。 模具工作零件PVD处理的工艺参数见表4-42。 经PVD处理的凸模、凹模寿命提高到10万次以上，未采用PVD处理的凸、凹模寿命只有1～3万次，模具寿命提高了3借以上。 例3 采用低温多弧离子镀TiN处理电度表拉深模 多弧离子镀的沉积温度一般为400～600℃，与气相沉积相比这个温度已经足够低了。但是400～600℃已经高于一些模具材料的回火温度。在这个温度下进行TiN沉积，将会使模具工作零件的硬度受到影响。因而希望沉积温度降低到模具工作零件材料的回火温度以下。 采用Cr12MoV钢制造电度表壳的拉深模具工作零件经低温沉积TiN涂层处理效果良好。 镀膜时将沉积温度控制在250～350℃范围内，用红外辐射测温仪来测量和显示沉积温度。 在多弧离子镀设备中，沉积温度主要受靶源电流的大小及基体负偏压高低的影响，为保证镀层与基体的结合强度，沉积时不降低基体负偏压，而用降低靶源电流和控制靶源数量的方法来控制沉积温度，但这会明显降低沉积速率，因此，必须采用相应延长沉积时间的措施，以得到足够的镀层厚度。 对涂层的测试分析主要有以下项目： （1）涂层的成分 用能谱仪对涂层进行X射线衍射分析，结果表明，涂层为TiN单相结构，没有出现Ti和Ti2N的衍射峰。 涂层的电子探针分析结果见表4-43。从表中可以看出，在低温沉积条件下，TiN涂层的成分可保持严格的l:1理想配比。 （2）涂层的硬度 不同温度下沉积TiN的显微硬度见表4-44。由表中可见，低温涂层的硬度比高温涂层的硬度略有降低，这可能是由于沉积温度低、晶体结构缺陷相对增多造成的，但降低后的硬度值仍能满足模具工作零件表面强化的需要。 （3）沉积速率 在安培小时数相同，但沉积温度不同时，沉积涂层厚度见表4-45。由表中可见，随沉积温度下降，膜的沉积速率也下降。 经低温沉积TiN涂层的电度表拉探模，其使用寿命由原来的2000件提高到2万件以上。此外，用65Mn钢制造的精密平面磨床的主轴，经低温沉积TiN涂层处理后，不仅精度高（径向圆跳动0.002mm），表面粗糙度值（Ra0.02μm）低，而且耐磨性可提高6～8倍（模拟试验结果），是机床生产中的一大技术突破。 尚辅网 / 在线教务辅导网： 更多课程配套课件资源请访问在线教务辅导网 4．4 模具表面的气相沉积技术 气相沉积是将含有形成沉积元素的气相物质输送到工件表面，在工件表面形成沉积层的工艺方法。其通常是在工件表面覆盖0.5～1.0μm的一层过