沉积温度对N掺杂Cu2O薄膜生长及光学特性的影响.PDFVIP

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2018-12-13 发布于天津
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沉积温度对N掺杂Cu2O薄膜生长及光学特性的影响.PDF

：李洪婧等沉积温度对掺杂薄膜生长及光学特性的影响ＮＣｕＯ２１８８１沉积温度对掺杂薄膜生长及光学特性的影响＊ＮＣｕＯ２，，，，李洪婧马春雨李帅董武军张庆瑜　（，）大连理工大学三束材料改性重点实验室辽宁大连１１６０２４：，，摘要利用反应射频磁控溅射技术首次利用氧化为了更好地控制ＣｕＯ薄膜的生长本文首次选　　２，，铜作为溅射靶在氮气和氩气的混合气氛下制备出，Ｎ用ＣｕＯ靶为溅射靶在无氧的环境下采用射频磁控溅。，掺杂的ＣｕＯ薄膜通过改变沉积温度研究了氮掺，，２射方法在氮气和氩气的环境下制备了掺杂的Ｎ杂ＣｕＯ薄膜的结构特征和生长模式以及光学特性。２。，薄膜在这一方法中由于原子完全来自溅ＣｕＯＯ２，（）研究结果表明低温沉积时薄膜表现为比较强的１００，。射靶因此可以有效避免相的产生通过射线ＣｕＯＸ；，织构随着沉积温度增加到５００℃ 薄膜逐渐转变为（）、（）衍射ＸＲＤ原子力显微镜ＡＦＭ以及透射光谱等技（），１１１织构沉积温度增加导致的临界成核自由能的增，术分析了沉积温度对掺杂的薄膜结构特征