制备铋靶的脉冲电镀工艺.pdfVIP

第23卷第2期 强 激 光 与 粒 子 束 V01．23，N。．2 POWERLASERANDPARTICLEBEAMS Feb．，2011 2011年2月HIGH 文章编号： 1001—4322(2011)02—0428—05 制备铋靶的脉冲电镀工艺’ 张红强， 戴亚堂， 张 欢， 夏 姣 (西南科技大学l四JJl省非金属复合与功能材料重点实验室一省部共建国家重点实验室培育基地．四川绵阳621010) 摘 要： 采用脉冲电镀工艺，以直径为1mm的铜丝为芯轴，在无氰镀液体系中，制备出惯性约束聚变实 验用铋靶所需的金属铋镀层。通过正交试验得到的最佳脉冲工艺条件为：电流密度sA／cm2，频率600Hz，占 空比1：6，温度20℃。利用扫描探针显微镜和扫描电子显微镜分别对铋镀层表面形貌进行分析，同时利用X 射线衍射对铋镀层物相成分进行分析。表征结果表明：所得铋镀层表面细致均匀，孔隙率低，平整性好，元裂 纹。 关键词：铋靶； 脉冲电镀； 无氰镀液； 乙二胺四乙酸盐； 表面形貌 中图分类号： TQl53．1 文献标志码： A doi：10．3788／HPLP0428 惯性约束聚变(ICF)是实现可控热核聚变能源的主要途径之一，可为人类提供取之不尽、用之不竭的清洁 金属铋由于其热中子吸收截面很小并且熔点低、沸点高，在核反应堆实验研究中常有利用。鉴于ICF实验对 微靶的组成及性能要求，铋靶有望成为未来ICF实验用靶。铋电镀工艺研究是电镀法制备铋靶的重要技术环 节之一[5]。目前，有关电镀铋的研究工作，国内外文献报道多是研究镀液电化学方面，而关于电镀铋的工艺研 究报道则很少，特别是铋的脉冲电镀工艺则鲜见报道L6。1…。因此，开展脉冲电镀铋的工艺研究具有重要意义及 科研价值。本研究采用无氰镀液体系，研究得出单脉冲电镀铋的最佳工艺参数，检测结果表明所得铋镀层色泽 光亮，表面均匀、致密，孔隙率低。 l 实 验 1．1仪器及药品 厂)；自制电镀槽等。 主要试剂及材料：硝酸铋(成都市科龙化工试剂厂)；乙二胺四乙酸二钠(成都市联合化工试剂研究所)；5一 磺基水杨酸(国药集团化学试剂有限公司)；酒石酸钾钠(成都市科龙化工试剂厂)；氯化钾(成都市联合化工试 剂研究所)；氢氧化钾(成都市科龙化工试剂厂)；庐=1mm的高纯铜丝(上海亿年金属材料有限公司)等。所用 试剂均为分析纯。 1．2工艺流程 去污粉清洗一蒸馏水冲洗一稀盐酸侵蚀一蒸馏水冲洗一化学除油一热蒸馏水冲洗一化学抛光一 蒸馏水冲洗一脉冲镀铋一蒸馏水冲洗、晾干。 1．3镀液配制 按所需计量配制镀液，各组分含量分别为：硝酸铋80g／L，K,--胺四乙酸二钠90g／L，5一磺基水杨酸120 g／L，酒石酸钾钠60g／L，氯化钾60g／L，镀液pH值为8～9。 1．4正交试验设计 在前期大量单因素条件试验的基础上最终选定脉冲频率、占空比、电流密度、温度作为正交试验的4个影 -收稿13期：2010—05—19；修订日期：2010-10—19 基金项目：国家高技术发展计划项日；西南科技大学博七基金项目(08zx0101) 作者简介：张红强(1984一)。男．硕士研究生．研究方向为材料电化学；zhq2417@163．corn。 通信作者：戴亚堂(1969一)，男，教授，主要从事材料电化学与表面技术研究tdaiyt2003@163．COrn。 第2期 张红强等：制备铋靶的脉冲电镀工艺 429 机排序)。试验结果的评价指标为铋镀层宏观表面状 衷1正交试验因素水平 of 态和增重率。本研究将铋镀层宏观表面状态的评价标 !竺!Le州sfac—torsi—nort竺竺!!竺 准分为4个等级(按满分100分的标准划分)，分别为： (a)86～95，镀层为银白色且微显红色，比较光亮，