离子束清洗在激光薄膜中的应用研究.pdfVIP

离子束清洗在激光薄膜中的应用 张大伟 邵建迭 王英剑 范正修 范瑞瑛 (中国科学院上海光学精密机械研究所 上海 201800) 摘要：用End-HalI型离子源进行了离子来清洗在激光薄膜中的应用研究．通过实验验证了基 片的二次污染和离子束的清洗效果，现测了离子束清洗前后基片的表面形貌变化，研究了离子束清 洗基片对基片上薄膜抗激光损伤阙值的作用．分析了离子束清洗对基片表面性质如清洁度、表面能， 接触角、表面形貌的变化机理，指出杂质微粒的去除和附着力的增加的综合作用是使薄膜抗激光损 伤阉值显著提高的原因， ， 关键词：高功率激光薄膜；离子束清洗：离子源：损伤阈值 1．引言 激光薄膜是激光系统中不可缺少的基本元件，其质量和性能是影响和保证整个系统性能的重 要因素。激光惯性约束聚变装置是规模最大的一类高功率激光系统装置，如美国诺瓦(Nova)装 置、美国国家点火装置(NIF)，中国神光系列装置等，其中都包含有大量激光器件和光学元件。 这些高功率激光系统对激光薄膜的性能提出了更高的要求．探索如何在薄膜制备中引入新的工艺 手段和技术，制备出高性能的高功率激光薄膜是迫切需要研究的课题。 一个良好特性光学薄膜的获得，不但与其自身的沉积工艺相关，同时也与基片的抛光水平以 及基片镀膜前的晟终处理技术密切相关。从实际使用情况来看。国内提供的激光薄膜的损伤阈值 仍然与国际先进水平有相当大的距离。对基底表面的清洁技术研究的不够深入应是造成差距的一 个主要因素。国内未见这方面的深入研究报告．但国外对这方面的工艺研究一直没有停止过．而 且已经作为薄膜抗激光损伤强度提高措施中的一个有机组成部分。每年一度在美国召开的Boulder 激光损伤会议，2003年还邀请了JeanBenncU做“Howtoclean surfaces”的特邀报告。 现有的清洗技术有化学清洗、超声波清洗和离子束清洗等。化学清洗和超声波清洗都使用了 化学溶剂，属于湿法清洗。清洗后的基片容易残余和吸附清洗试剂的化学分子。另外超声波清洗 方法中使用的氮气吹千工序中，如果氮气的质量不商，也会在基片上留有污物。因此，化学清洗 和超声波清洗后的基片在放入真空室后有必要在镀膜之前再用离子束清洗以达到清洁的目的。 离子束清洗技术已经广泛应用于电子工艺清洗中，和其他电子工艺清洗方法相比，它属于干 洗清洗方法，有着不污染环境和清洗能力强的等优点。真空镀膜中的离子束清洗技术是在基片镀 膜前对基片进行的最后一道处理。它是在真空室里，基片在镀膜之前用一定参数的离子对基片清 洗一定时间．这一技术在真空镀膜中己得到一定应用，但离子束清洗在激光薄膜中的应用研究尚 未见深入报道。我们进行了这一工作，对离子束清洗对基片表面性质的影响以及薄膜抗激光损伤 阈值提高的机理进行了分析． 2．实验 清洗实验是在ZZSX-800F高真空镀膜机里进行的，设备的高真空机组采用机械泵+罗茨泵+分 为研究真空室里的二次污染和离子的清洗效果．将擦洗的几片基片放入真空室，待真空室抽 取到一定真空后取出，用LeicaDIvIRXE型偏光显徽镜观察拍摄。然后对二次污染的基片进行离子 束清洗，清洗后再次观察拍摄。‘为研究离子束清洗对基片表面接触角和表面粗糙度以及表面形貌 Maxim3D5700 的影响，将基片进行定向离子束清洗。用JC2000A静滴接触角，界面张力仪和Zygo 表面轮廓仪分别测量清洗前后基片表面对水滴的接触角和基片表面的均方根粗糙度。用PSIA XE-100型AFM(原子力显微镜)进行了清洗后的表面形貌图横截面的观察． 为研究离子束清洗基片对薄膜抗激光损伤阈值的影响，分别在离子束清洗后和未清洗的基片 为406／an,最大脉冲能量为100m。取0损伤几率时的能量密度作为样品的损伤阈值．对激光损伤 破斑用LeicaDMRXE偏撮光学显微镜观察。 3．实验结果 3．1二次污染和离子束清洗作用 图l(a)是对被二次污染的基片吸附杂质的拍摄。对该片在真空室里进行离子束清洗，离子能 为了清楚对比清洗效果，我们在图2(a)中对污染的表面进行了标记，