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第19卷第5期 传感技术学报 V01．19No．5
AND
2006年10月 CHINESEJOURNALOFSENSORSACTUATORS Oct．2006
Fabrication
andCharacterizationofFree StructureMembrane
Standing
with Width—ThicknessRatio
High
Ll
Bo’，xU(、hen，ZHAoHui，ZHAoLin-lin，HUoWen-xiao．SoNGYi—chao，SHEN
Guang—di
Electronic andControl
(Collegeof Information Engineering，BeijingUniversityofTechnology，
100022，China)
BeiiingOptoelectronicTechnologyLaboratory，Beijing
free structurefilmisa ofMEMSdevice．WeusedPECVD to
Abstract：The
standing keypart equipment
lowstressSiNxfilmandfabricated aniso—
deposit boron-dopedP+一siliconfree-handingdiaphragmusing
wet ratioofwidththicknessof isabout
tropicetchingtechniques．The to p+一siliconfree-handingdiaphragm
3 000：1．The of filmis modulus
SiNx 9000：1．Wemeasuredits nanoin—
correspondingfigure Young’S by
the the these
of filmand thedifferenceof twomethods．
dentation，analyzeddynamicperformance compared
width—thickness structure
Keywords：high ratio；freestanding film；Young’S
EEACC：2575B
大宽厚比悬空薄膜的制备与性能分析研究
李 博”，徐 晨，赵 慧，赵林林，霍文晓，宋义超，沈光地
(北京工业大学电子信息与控制工程学院，北京市光电子技术实验室，北京100022)
摘
为3000：1的悬空浓硼si薄膜和宽厚比为9
的杨氏模量．比较了两种方法的优劣．
关键词：大宽厚比；悬空薄膜；杨氏模量；纳米硬度计
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