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2005年10月 四川大学学报(自然科学版) Oct.2005
of Sdence V01.42Issue2
Sichuan Edition)
第42卷增刊2 Journal University(NaturAl
文章编号:0490.6756(2005)oz,2.0225—05
铋层状结构压电材料的掺杂改性研究
李永祥1,杨群保1,曾江涛1一,易志国1,2
(1中国科学院上海硅酸盐研究所·高性能陶瓷和超徽结构国家重点实验室,上海200050
2.中国科学院研究生院,北京100390)
v5+和vr6+取代部分B位的Tp+的掺杂改性,研究了不同掺杂元素及掺杂位置对材料结构和
性能的影响.结果表明,A位和B位均能通过提高剩余极化和降低矫顽场,来改善陶瓷的压电
性能;A位比B住有更高的掺杂圉溶量,可获得更好的铁电和压电性能,剃余极化2只高这
pC/N.
20.4/1C/ern,压电常数d33高速20
关键词:铋层状铁电材料;CaBhTh015;掺杂改性;压电性能
中图分类号:n位21 文献标识码:A
引言
传统的PZT系列压电陶瓷在驱动器、传感器等领域担负着非常重要的角色,但由于居里温度低,使其
应用局限在较低温度区域,与之相比,铋层状结构压电陶瓷因居里温度高,而在高温压电(高温压电加速度
计和高温压电流量计等)方面有着广阔的应用前景.
但是其结构的限制,自发极化转向受到二维限制,压电活性较低.为此对该陶瓷晶体结构的A位和B位进
化(P,=12pC/cm2)[2
BIT的压电常数d33高达19pC/N[….
的原子半径较小,有助于保持高的居里温度.Nd3+掺杂BIT的研究已经有了大量的报道,但很少见到
集中在m=2,3的铋层状结构化合物中,在m=4的铋层状结构压电材料中很少有相关报道.因此本文
能的影响.
2实验过程
偿铋的挥发,Bi203添Jlll
收稿日期:2005,08—31
基金项目:国家“863”计划基金(2001AA325070)和国家。973”计埘基金(2002CB613307)
作者简介:李永祥(1963~),男,博士,教授.E-mail:y】cli@H础.萄c.8c.crt.
四川大学学报(自然科学版) 第42卷
2000
80。)测定其晶体结构;利用TFAnalyzer
回线;最后,利用zJ.3A型准静态d33测量仪器测量试样的压电系数d”
3结果与讨论
3.1 A位掺杂Nd3+对CBT陶瓷电学性能的影响
口Hr_z),其中口代表空位.
3,1+1
线及其剩余极化2Pr随掺杂量的变化关系.CBNT-x陶瓷的剩余极化随着掺杂含量的增加先增大,随后
陶瓷剩余极化增加了80%的.同时陶瓷的矫顽场略有提高,从纯CBT陶瓷的78kV/cm提高到CBNT-0.
25的83kV/cm.
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