离子辅助沉积对 Nb2O5薄膜特性的影响.pdfVIP

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2018-04-07 发布于北京
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离子辅助沉积对Nb205薄膜特性的影响张德景，李明宇，顾培夫 (浙江大学现代光学仪器国家重点实验室，浙江杭州310027) 摘要：为了提高Nb。O。薄膜的聚集密度，改善氧化铌薄膜的光学特性和机械特性，采用霍尔源离子辅助沉积技术使Nbzos膜的聚集密度提高了14％，膜层折射率从常规工艺的2．03上升到2．18，膜层的附着力和牢固度从常 7 7 规工艺的1．0×10N／m2提高到129．7×10 N／m2．关键词：Nb。O。薄膜；离子辅助沉积；聚集密度；附着力中图分类号：0484 文献标识码：A 文章编号：1008—973X(2004)10—1387—04 on films丽thionassisted Studyperformanceof№05 deposition ZHANG Pei—fu De—jing，LIMing—yu。GU (State Modern KeyLaboratoryof Optical 310027，China) Instrumentation，ZhejiangUniversity，Hangzhou ordertoenhancethe Abstract：In andmechanicalof filmswere optical propertyNb205films，Nb205 depos— itedonK9 substratesane—beam withlow ionassisted glass using gunevaporation energyoxygen deposition anend—Hallion ofthe mechanical ofthe (IAD)from and Nb。O． source．Comparisonoptical performance filmswithIADandwithoutIADwasmade．Theresultsshowthat withiOnassist Nb，O。films deposited muchmore thanthose were withoutionassist．TheIADincreasedthe profitable deposited packingdensity of films14％，hencetherefractiveindexarosefrom2．03 to2．18andtheadhesionrosefrom Nb，05 by up 7 7 about1×10 to129．7×10 N／m2 N