hi13串列加速器重离子微孔膜辐照束流线物理设计-physical design of irradiation beam streamline of heavy ion microporous membrane in hi13 tandem accelerator.docxVIP

5.3 电磁场数值计算...........................................................................................575.4 好场区分析...................................................................................................585.5 线圈功率计算...............................................................................................605.6 线圈水冷计算...............................................................................................615.7 本章小结.......................................................................................................66第六章 总结与展望....................................................................................................676.1 总结...............................................................................................................676.2 展望...............................................................................................................67参考文献......................................................................................................................68研究生期间发表论文..................................................................................................72致谢..............................................................................................................................73摘要重离子微孔膜是高分子薄膜经加速器产生的重离子束流辐照后再经过化学 蚀刻处理制备出的一种优质微孔膜，为核径迹蚀刻微孔膜的一种。它是一种筛孔 型过滤介质，其微孔近似圆柱形且孔型圆整、孔径大小均匀，微孔尺寸和密度可 以按照需求严格控制。它具有过滤速率大、机械性能优良和化学稳定性良好、热 稳定性良好等优点，是一种性能优异的过滤材料，其在医疗和生物制剂、电子工 业、食品工业、环境科学、材料科学等领域有广泛的应用前景。HI-13 串列加速器是我国最大的静电加速器，可提供的离子齐全，能量高且 可连续调节。重离子微孔膜的制备主要依靠于 HI-13 串列加速器产生的高能重离 子束流进行辐照，其微孔均匀度由束流流强分布的均匀度决定，提高微孔均匀度 是重离子微孔膜产品质量的关键。本文根据辐照均匀度好于 90%的生产要求，设计了两种辐照方案；其一为二 维李萨如扫描法，李萨如扫描法是在 X 和 Y 方向上对束流施压不同频率的周期 作用力，则束流会沿着特定的李萨如图形扫描，通过选择合适的频率及束斑大小， 在一个公共扫描周期内让靶上的束流宏观分布变得均匀。当靶静止时，李萨如扫 描很容易得到均匀的束流分布;当靶以一定速度移动时，等效于靶静止不动而束 流在扫描的同时总是朝某一方向移动，这样会破坏其移动轨迹的均匀性，导致束 流的宏观分布的均匀性也变差。本文通过分析束斑大小、强度分布和扫描频率之 间关系，计算靶上束流分布，设计束流线光路参数，理论上最终可以得到辐照均 匀度好于 90%。但此种辐照方式其均匀度为动态分布，对设备的稳定度要求很高， 且对均匀度的控制手段较少。其二为八极磁铁校正法，八极磁铁校正法是利用八极磁铁对高阶相差的校正 作用把具有高斯分布的束流校正成近似均匀分布的束流，极大