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inasingasb超晶格的能带结构和器件设计研究-study on energy band structure and device design of inasingasb superlattice

摘要本文按照第一性原理方法并利用 k·p 理论对 InAs/(In)GaSb 超晶格的电子能带 结构、力学和光学特性进行了系统的计算和分析,着重探讨了 InAs/(In)GaSb 超 晶格在光电子应用中的一些重要问题:结构优化、俄歇寿命、界面结构与弛豫、 低维系统(原子链、纳米线和纳米管超晶格)等。在此基础之上,设计了一种在 同一材料(工作区)上实现两个波段同时探测的双色红外光电探测器,简单模拟 了光电流响应谱。最后,对在 InAs/(In)GaSb 超晶格等低维结构半导体中可能存 在的非粒子反转量子相干红外激光发射机制进行了理论分析和讨论。文中首先介绍了InAs/(In)GaSb超晶格的研究背景、相关的材料特性和几种基 本的光电子探测元件以及能带结构的 一般计算方法。阐述了密度泛函理论 (DFT)体系及其数值计算方法在近几十年来取得了巨大发展,被广泛应用于物 理、化学、材料和生物等学科的理论研究中。对第一性原理计算的基本理论(密 度泛函理论)及其扩展形式进行综述,并简要介绍了一些第一性原理计算软件 包。利用包络函数近似的8带k·p理论对长波红外探测的自立[001]InAs/InxGa1-xSb 超晶格的能带结构和光学性质进行了系统的计算,其中包括各个主要子能带的能 级与色散、截止波长、C1和HH1子带宽度、动量矩阵元、C1子带在布里渊区中心 的有效质量。根据计算结果针对结构优化的问题进行讨论和分析,对于所计算的 各种物理量指出了InAs/InxGa1-xSb超晶格优化结构的参数区域。从理论上证明了 通过结构优化可使多参变量的InAs/InxGa1-xSb超晶格应用于高探测率的长波红外(LWIR,8?14μm)光电探测器。根据 8 带 k·p 理论计算的能带结构,用三种俄歇复合过程同时受抑制的机制 对 InAs/InxGa1-xSb 超晶格的结构进行优化,使其能够应用于高探测率 LWIR 探测 器。通过第一性原理的完整形式,基于全势能线性化增广平面波方法确定的精确 能带结构和波函数,推算了技术上具有重要意义的窄带隙半导体超晶格中载流子 俄歇复合时间。n-掺杂 HgTe/CdTe 和 InAs/InxGa1-xSb 超晶格的空穴俄歇寿命的计 算结果与一些实验结果非常接近,说明该计算模式可以作为一种精确的手段用于 计算窄带隙超晶格材料的载流子俄歇寿命。通过广义梯度近似的第一性原理全电子相对论计算,研究了不同界面类型 InAs/GaSb超晶格的界面结构、能带结构和光吸收特性,着重考查并分析了超晶 格界面层原子发生弛豫的影响。通过计算InAs/GaSb超晶格的电子总能量和应力 来确定弛豫界面结构。计算结果表明,界面 Sb 原子的化学键和离子性对 InAs/GaSb超晶格的界面结构、能带结构和光学特性起着至关重要的作用。I对 InAs/GaSb 超晶格的三种低维结构进行了第一性原理研究,一共分为三部 分。第一部分利用第一性原理赝势平面波法以及 DFT 数值基组展开和非平衡格林 函数相结合的方法,对 InAs/GaSb 原子链超晶格的原子结构、力学特性、电子能 带结构和声子结构、量子输运和光学特性进行计算。与二维层结构的 InAs/GaSb 超晶格相比,InAs/GaSb 原子链超晶格的能带结构有明显的不同,随超胞中 InAs 和 GaSb 双原子数量的多少而变化,在某些情况下表现出金属能带特性。通过对 声子的完整布里渊区分析来研究 InAs/GaSb 原子链超晶格的结构稳定性。量子输 运特性的计算表明电导随链长和应变的改变而发生变化。某些结构的光吸收谱表 现出在红外波段的陡峭吸收边,截止波长随原子链超晶格的结构而改变。第二部 分用与第一部分类似的第一性原理方法来计算轴线沿[001]和[111]闪锌矿晶体学方 向的(InAs)1/(GaSb)1 纳米线超晶格(下标表示分子或双原子单层的数量)的结 构、电子、力学和光学特性。计算结果表明,由于表面的影响,径向晶格常数随 线径的减小而减小;和普通的单一材料纳米线类似,(InAs)1/(GaSb)1 纳米线超晶 格的杨氏模量和泊松比随线径的减小分别减小和增加。(InAs)1/(GaSb)1 纳米线超 晶格带隙宽度随线径变化呈现 1/Dn(D 为纳米线直径,n1)的趋势。由于能带 色散随轴向应变发生变化,有效质量会随轴向应变而发生变化,甚至在小线径结 构中会发生直接带隙向间接带隙的转变。第三部分利用第一性原理赝势平面波法 计算了(10, 0) InAs、GaSb、InxGa1-xSb 纳米管和 InAs/InxGa1-xSb 纳米管超晶格的 结构和电子特性。InAs、GaSb 和 InxGa1-xSb 纳米管表现为半导体直接带隙。 InAs/InxGa1-xSb 纳米管超晶格(0x0.4)表现出二

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