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中红外薄膜的离子辅助淀积 ⑨一 ]中红外薄膜的离子辅助淀积 熊胜明张云洞 -..—,-_一P_— (中科院光电所,成都610209) .cfI 漱毛j扛外 l_ASERamp;lNFIEamp;RF.D 第23誊第6期 摘要本文研究了用离子柬辅助淀积的中红外ZnS,ZnSe,YbF,,BaBaFz+ CaF(6,4)膜在3.8Hm波长处光学特性和其它性毖,用透射电镜和光电子能谱仪研究了 这些单层膜徽结构和化学计量比.实验发现离子束辅助淀积膜层填充密度增加,附着力增 强,机械强度和环境稳定性得到明显改善.用离子柬辅助淀积的中红外反射膜在3.8m 波长反射率大于0?994..… 关键词离子辅助淀积红外薄膜薄膜特性.戋璧翳 lOn—assistedDepositionOfMid—infraredThinFiIm XiongShengmingZhangYundong (InatltuteofOpticsamp;E1ectronlcs?AcademiaSiniea,Chengdu610209) AbslractTheopt~.alandothercharactel:isticsofZnS?ZnSe,nF|FIandBaFt+Cinfrmmd singhthinfilmsmadebyionassistancedeposition(LAD)n3.8prowavelengtharediscussedinthispa- per.ThemicrostruetureandstoichiometricratiothesefilmsexaminedandmeasuredbytheTEMand PESatepresented.Ithasbeen~oundthatLADtechmqueincreasesthepackeddensityoffilms,ell- hancestheadhesionandobviouslyimprovesmechanicalstrengthandenviromentalstability.丁here— flecmymeofmid--infraredrefle~coatings~oducndbyionassistancedepositionat3.8mwavelengthis morethan0.994. Keywordsionassistancedeposition,infraredthinfilms,coatingpr0perty 一 ,引言 光学薄膜各种性能取决于淀积技术.一般 说来,薄膜特性劣于相应大块材料,这种差异与 热蒸发膜柱状微结构有关.为了改善薄膜结构, 进而改善薄膜性能.人们开发了各种各样的新 的淀积技术.如离子镀IP,离子束溅射淀积IBf SD,离子辅助淀积IAD,射频溅射RS,超声波 辅助技术等.八十年以来,离子束辅助淀积 IAD的光学薄膜取得了用一般方法淀积薄膜 所没有的特性.如,介质膜的离子辅助淀积 表明,它增加了薄膜的填充密度,改善了膜层粘 附性…..IAD还改变了介质膜化学计量比和 结晶性.对于金屑膜来说,IAD增强了 Au,Ag和AI膜在玻璃上的附着力;同时 42 使膜屡应力发生转变,可减少光散射,提高激光 损伤阈值. 中红外2～6Fro波段HFDF,CO等波长 激光器件越来越引起人们极大关注.但关于这 些波长的透明薄膜光学吸收和其它性能研究得 不多,薄膜本身的光学常数报道更少.我们 对离子束辅助淀积的Zns,ZnSe,YbF,BaF 和BaF+CaF2(64)等红外膜的特性进行了研 究.得到一些重要数据和实验结果.比较了一般 蒸发膜与氩离子辅助淀积膜的光学特性. 本刊1992年8月收判 *1II}胜明男-l964年2月生,助研.J986年毕韭于四JIl大 学物理采光学专业-1999~毕业于中国抖学I竞光电=I主术研究 所f硬士).现从事澈光薄膜,应用光学研究. 二,实验技术 离子束辅助淀积中红外膜实验装置如图1 所示.镀膜机为北仪DMD一450型真空镀膜 机,电子枪和电阻蒸发源淀积膜层.被测试薄膜 在室温下用蒸发和离子束辅助镀制.所用基片 取决于所用分析技术.低折射率YbF,BaF和 BaF+caFt(6t4)膜光学特性测量用ZnSe作 基片,而ZnS和ZnSe膜用Ge作基片.5cm Kaufman热阴极高子源安装于镀膜机内,镀膜 基片距电子束蒸发源40cm,离子枪加速栅距基 片21cm,并以20.角倾斜入射到基片以保证比 较大的镀膜均匀面积.位于监控片附近法拉第 杯监测离子流密度,离子束能量由束电压确定. 薄膜厚度用光电极值法控制,单层膜光学 特性用光度方法确定,薄膜化学计量比用光电 子能谱仪测量,馓结构用电子显微镜观测.被镀 基片用乙醇和乙醚混合液清洗,镀膜前再用 300eV.80~A/cm离