远中移动棒结合种植体支抗移动上颌牙列临床应用.docVIP

远中移动棒结合种植体支抗移动上颌牙列临床应用 　　[摘要] 目的：探讨正畸矫治中远中移动磨牙的有效方法。方法：对21例安氏Ⅱ错 患者采用远中移动棒与微种植体支抗有机结合，远中移动上颌磨牙的方法，观察其矫治后磨牙关系的改变情况。结果：患者的上颌磨牙均实现有效远移，解除上颌牙列的拥挤，达到Ⅰ类关系。结论：应用远中移动棒结合微种植体支抗可以有效解除牙列的拥挤，为牙列拥挤的非拔牙矫治提供了一种新方法。 　　[关键词] 远中移动棒；微种植体支抗；磨牙远移；牙列拥挤 　　[中图分类号] R783.5 [文献标识码]B [文章编号]1673-7210（2011）07（b）-238-02 　　 　　The clinical practice with the carriere distalizer and microscopic implant anchorage during teeth backwards movement 　　YIN Yucheng1, LAN Zedong2, ZhangPeng3 　　1.The Stomatology Center of the Shenzhen Fifth Peoples Hospital, Shenzhen 518001, China;2.Guangzhou Medical University, Guangzhou 510140, China;3.Stomatology Hospital of Foshan in Guangdong Province, Foshan 528000, China 　　[Abstract] Objective: To discuss the effective treatment method during upper teeth backwards movement in clinical practice. Methods: Make upper teeth backwards with CD appliance combined MIA as anchorage for 21 patients of Angel Ⅱ occlusion, to observe the change of molar teeth. Results: Upper molars have achieved backwards movement effectively,relieved crowded of upper teeth, reached classⅠor over-classⅠrelations. Conclusion: Practice with CD appliance and MIA together in clinical can achieve teeth backwards effectively, is a new technic curing teeth crowded beyond nonextraction treatment. 　　[Key words] Carriere Distalizer; Microscopic implant anchorage; Molar backwards; Teeth crowded 　　 　　上颌前牙拥挤、磨牙Ⅱ类关系是临床上常见的错 类型，对下颌骨发育正常的Ⅰ类骨面型或轻度的Ⅱ类骨面型的患者常采用非拔牙矫治，可通过远移上颌磨牙的方法来纠正磨牙关系，解除上牙弓拥挤。远中移动棒（Carriere Distalizer，CD）矫治器可以实现磨牙及前磨牙的组牙后移，微种植体支抗（Microscopic Implant Anchorage，MIA）可以提供绝对支抗，将CD及MIA联合应用，可以完美地实现牙列的整体后移。 　　1 资料与方法 　　1.1 一般资料 　　安氏Ⅱ错 患者21例，其中男13例，女8例，年???13～19岁，平均16.3岁。样本纳入标准：①安氏Ⅱ错 ；②头颅定位片测量结果显示下颌骨发育正常或基本正常；③尖牙和磨牙均为远中关系；④下颌牙列无明显拥挤，上颌Ⅰ度～Ⅱ度拥挤，可以实施非拔牙矫治；⑤患者面部无偏斜，未接受过正畸治疗。 　　1.2 材料 　　CD矫治器由Class One公司生产，有3种不同的长度规格：23 mm、25 mm、27 mm。MIA（1.5 mm×10 mm）由台湾亚太医疗器材科技股份有限公司生产。 　　1.3 安装CD矫治器 　　CD有3种不同的长度规格：23mm、25mm、27mm。正确的长度是使用卡钳或测量尺从上颌第一磨牙颊面中点到尖牙唇面中点的距离测量得到的。对要粘接CD的牙面进行酸蚀，涂敷粘接剂，用拇指将底板按压在磨牙牙面中央，调整尖牙底