薄膜物理-CH7薄膜形成.ppt

薄膜的形成——核形成与生长 为了克服理论上的困难，1924年Frenkel提出了成核理论原子模型，并不断发展。 原子聚集理论的基本内容 原子聚集理论将核（原子团）看作一个大分子，用其内部原子之间的结合能或与基片表面原子之间的结合能代替热力学理论中的自由能。 临界核 当临界核尺寸减小时，结合能出现不连续性、以及几何形状不能保持不变。 无法给出临界核大小的解析式。 薄膜的形成——核形成与生长 由于临界核中原子数目较少，可以分析它含有一定原子数目时所有可能的形状，然后用试差法断定哪种原子团是临界核。 薄膜的形成——核形成与生长 温度 、 和 称为转变温度或临界温度，有如下计算公式： 原子团结构也与吸附能和结合能有关。如4原子团有平面结构和四面体结构： 平面结构：吸附能为4 ，结合能为5 四面体结构：吸附能为3 ，结合能为6 只有 时，才能形成四面体结构。 薄膜的形成——核形成与生长 成核速率 成核速率 与临界核面密度 、临界核捕获范围 和吸附原子向临界核扩散的总速率 有关。 由统计理论可得到临界核密度： 式中， 和 分别为基片表面上的吸附点密度和吸附单原子密度， 为临界核中的原子数目， 是临界核的结合能， 是单原子吸附状态下的势能。 薄膜的形成——核形成与生长 若将 作为能量基准，则 薄膜的形成——核形成与生长 计算： 令 ，可以得到转变温度 ，可以得到转变温度 薄膜的形成——核形成与生长 两种成核理论的比较 a.理论依据的基本概念相同，得到的成核速率公式的形式相同； b.采用的能量不同：热力学界面能理论用自由能，原子理论用结合能； c.微观结构模型不同：热力学界面能理论采用简单理想化几何构型（能量连续变化），原子理论采用原子团模型（能量非连续）； d.热力学界面能理论适用于大的临界核，原子理论适用于很小的临界核； e.两种理论都能正确给出成核速率和临界核、基片温度和基片性质的关系。 薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式 ★ 薄膜形成过程和生长模式 薄膜形成过程是指形成稳定核之后的过程。 薄膜生长模式是指薄膜形成的宏观形式。 薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式 薄膜形成过程描述: 单体吸附； 形成小原子团（胚芽）； 形成临界核（开始成核）； 临界核捕获原子，开始长大； 临界核长大的同时，在非捕获区，单体逐渐形成临界核； 稳定核长大，彼此连接形成小岛，新面积形成； 新面积吸附单体，发生“二次”成核； 小岛结合形成大岛，大岛长大并相互结合，有产生新面积，并发生“二次”、“三次”成核； 形成沟道和带有孔洞的薄膜； 沟道填平，封孔，形成连续薄膜。 薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式 薄膜形成可划分为四个阶段：成核、结合、沟道、连续 岛状阶段 可观察到的最小核尺寸：2-3nm； 核进一步长大变成小岛，横向生长速度大于纵向生长速度； 形状：球帽形——原形——多面体 岛的演变特点 岛生长的条件 岛的形成可以用热力学变量描述：表面自由能 薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式 岛的形成又可以用另一热力学变量描述：吸附能 界面结合能（粘附功）是指原子团（核）吸附前后体系总的自由能变化，即 薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式 晶格失配能 是指单位面积界面晶格失配产生的能量变化。 式中， 是原子团（核）投影面积。由此可导出另一形式判据，见教材。 当 时， 有 总的吸附能为： 三维生长判据 薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式 联并阶段 相邻小岛联并成大岛，接触面积减小，自由能下降。 联并过程的动力学关系： 式中， 是小岛的半径， 是颈部的曲率半径， 是吸附原子的扩散系数， 是表面自由能， 和 是常数， 是原子体积， 是吸附原子在岛上的面密度。 薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式 沟道阶段 孤立的岛有变圆的趋势。当岛结合以后，在岛的生长过程中变圆趋势减小，岛被拉长，连接网状结构，其中分布着宽度为5-20nm的沟道。 随着沉积，在沟道中会发生二次或三次成核。 连续薄膜阶段 当沟道和孔洞消除后，入射到基片表面上的原子直接吸附在薄膜上，形成连续薄膜。 薄膜的形成——溅射薄膜的形成过程 ★ 溅射薄膜的形成过程 关于溅