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AlO杂改性TiN薄膜的制备及性能研究
Al、O掺杂改性TiN薄膜的制备及性能研究 一、研究背景 PVD沉积硬质薄膜研究较多，很实用但不够美观，限制了其适用范围 一、研究背景 优点：PVD沉积TiN薄膜具有高熔点、高硬度，颜色以金色为主。它是第一个产业化并广泛应用的硬质薄膜材料。 一、研究背景 缺点：其颜色以金色为主，简单工艺改善很难达到变色的效果，这也限制了其使用范围 我们是否可以沉积彩色薄膜，扩大使用范围，比如电脑外壳 创新点 一、研究背景 原有电子产品外壳表面处理技术中电镀、喷涂、电泳等，外观精美，颜色多样， 一、研究背景 缺点：薄膜硬度低、易划伤；电镀、电泳工艺是高污染、高浪费、高耗能工艺技术。 背景衍生 二、现有条件 工程实践报道PVD沉积Cr、Ti、Al、Ni等多元复合金属氮氧化物薄膜在提高薄膜硬度的同时可实现薄膜颜色变化，但未见深入研究 三、薄膜设计 TiAlNxOy TiAlNx Ti 45# samples/Silicon chips 打底层 硬质薄膜层 变色薄膜 四、工艺设计 五、产品展示 五、产品展示 六、力学性能测试 随氧气通量增大，颗粒边界紧密化纤维组织细化，致密化，表面平整化 六、力学性能测试 六、力学性能测试 创新点 制备TiN薄膜的同时掺入Al、O： 更高硬度、 抗氧化能力更强, 具备金、棕、蓝紫等多色系氮氧铝钛复 合膜硬质涂层 谢谢 * 我们是否可以 * * * 我们是否可以 * *
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