射频磁控溅射法制备掺钛氧化锌透明导电薄膜及其性能分析-preparation and performance analysis of titanium-doped zinc oxide transparent conductive films by radio frequency magnetron sputtering.docxVIP

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2018-07-31 发布于上海
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射频磁控溅射法制备掺钛氧化锌透明导电薄膜及其性能分析-preparation and performance analysis of titanium-doped zinc oxide transparent conductive films by radio frequency magnetron sputtering

学位论文版权使用授权书本学位论文作者完全了解学校有关保留、使用学位论文的规定，同意学校保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子版，允许论文被查阅和借阅。本人授权中南民族大学可以将本学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索，可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存和汇编本学位论文。本学位论文属于1、保密□，在年解密后适用本授权书。2、不保密√□。（请在以上相应方框内打“√”）作者签名：日期：年月日导师签名：日期：年月日目录摘要..................................................................................................................................IABSTRACT......................................................................................................................III第1章绪论........................................................................................................................11.1透明导电薄膜（TCO）材料...................................................................................11.1.1二氧化锡（SnO2）11.1.2氧化铟（In2O3）21.1.3掺锡氧化铟（ITO）21.2氧化锌（ZnO）透明导电材料2ZnO的晶体结构2ZnO的光学性能3ZnO的电学特性31.3薄膜的形成...............................................................................................................41.3.1凝结过程............................................................................................................41.3.2核的形成与生长过程.......................................................................................41.3.3薄膜形成过程与生长模式...............................................................................41.4掺杂氧化锌的基本性质...........................................................................................61.4.1AZO薄膜的基本性质61.4.2TZO薄膜的基本性质71.5本论文的研究目的和意义.......................................................................................8第2章TZO薄膜的制备方法92.1真空蒸发镀膜法.......................................................................................................92.2离子镀膜.................................................................................................................102.3化学气相沉积.........................................................................................................112.4溶胶-凝胶法............................................................................................................142.5磁控溅射法.................................