石英衬底上超导铌金属薄膜的制备技术分析-analysis of preparation technology of superconducting niobium metal film on shi ying substrate.docxVIP

独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。据我所知，除了文中特别加以标注和致谢的地方外，论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果，也不包含为获得电子科技大学或其它教育机构的学位或证书而使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说明并表示谢意。作者签名：日期：年月日论文使用授权本学位论文作者完全了解电子科技大学有关保留、使用学位论文的规定，有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘，允许论文被查阅和借阅。本人授权电子科技大学可以将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索，可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编学位论文。（保密的学位论文在解密后应遵守此规定）作者签名：导师签名：日期：年月日摘要高质量超导铌金属薄膜的超导转变温度（Tc）可达到9.3K，能经受多次高低温循环而超导性能不降低，另外其还具有机械强度高、耐腐蚀等特点。因此自铌超导薄膜实现以来，就被迅速的应用于国防、医疗、能源等诸多领域。目前通常采用磁控溅射法制备铌超导薄膜，但是由于铌金属熔点高、易吸氧，在制备过程中铌膜的质量会受到多种因素的影响。因此本论文基于直流磁控溅射镀膜法在石英衬底上开展了高质量的超导铌金属薄膜的制备工艺的研究。主要研究成果如下：首先采用简单的直流磁控溅射镀膜设备在平面石英衬底上制备铌膜，并通过X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）、四探针电阻测试仪、综合物性测量系统（PPMS）等分析手段来表征薄膜。研究发现制备的铌膜为体心立方结构的多晶薄膜，并沿（110）晶向择优生长。通过研究不同工艺参数（溅射气压、衬底温度、薄膜厚度、沉积速率、退火过程等）对铌膜质量的影响，发现溅射气压、衬底温度、薄膜厚度等参数均对铌膜的结晶状况、内部应力、表面形貌、电性能有显著地影响。通过参数优化，在平面石英衬底上制备出了结晶质量较好、表面光滑致密（RMS为2.88nm）、内部应力（-0.31GPa）较小、超导转变温度为9.07K的铌超导薄膜。其次通过改善铌膜制备条件并结合铌膜生长规律，研究了衬底偏压对磁控溅射制备铌膜结构和性能的影响，研究发现：一定的衬底负偏压（-100V）会促使铌膜电阻率增加，不利于提高铌膜电性能。另外还利用铌原子的“吸气”特性，通过提高溅射功率在3.5×10-4Pa的背景真空下制备出结晶质量高、表面光滑致密（RMS为3.9nm）、内部应力（约为-0.20GPa）较小、超导转变温度为9.3K的高质量铌超导薄膜。最后为制备可用于磁悬浮技术研究的球面铌超导薄膜，本论文还通过改进磁控溅射镀膜设备的结构并设计出球形衬底托盘，研究了不同运动状态下球面铌膜的厚度分布情况，并在表面光滑的实心石英球衬底上制备出附着性较好、表面电阻较低（电阻平均值为4.5Ω，电阻均方差为0.19）、膜厚分布较均匀的球面铌金属薄膜。关键词：铌超导薄膜，超导转变温度，内部应力，表面形貌，电阻率ABSTRACTHighqualitysuperconductingniobium(Nb)metalfilmhashighmechanicalstrengthandhighresistancetocorrosion,ofwhichsuperconductingtransitiontemperature(Tc)isupto9.3Kandsuperconductingpropertiesarenotreducedevenafterrepeatedtemperaturecycling.Therefore,sinceitwasdiscovered,ithasbeenquicklyusedinnationaldefense,healthcare,energyandotherfields.Currently,itisusuallypreparedbymagnetronsputtering.Nbmetalhashighmeltingpointandeasytoabsorboxygen,whichaffectsthequalityinmanyfactorsduringthepreparationprocess.ThispaperfocusedonthepreparationofNbfilmbyDCmagnetronsputteringonaquartzsubstrate.Themaincontentsandconclusionareasfollows:First,wepreparedNbfilmbyDCmagnetronsputteringonaquartzsubstrateandanalysisedtheinfluenceofdifferentparametersontheNbfilmbyXRD,AFM,four-