IC设计面临新机遇.docVIP

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IC设计面临新机遇

IC设计面临新机遇   中国大陆地区IC市场份额占全球34%      过去几年中全球IC产业一直处于优质发展态势,不仅产业发展稳定,而且增长迅速,随着制造业大规模向中国大陆地区转移,中国也顺利成章地成为IC产业的消费制造集中地。分析机构指出,2010年,整个远东地区(不含日本)IC市场规模将占全球60%,市场规模达到2794亿美元,中国将占其中的50%以上;到2012年,整个远东地区的IC市场规模将达到3342亿美元,占全球市场份额2/3。实际上,2007年中国IC市场发展远远超出预期的650亿美元,据工信部统计,2007年,中国集成电路进口额达到1284亿美元,其中约70%以上用于出口产品加工,已经占据全球市场的34%。而同期石油进口为862亿美元,农产品411亿美元,铁矿砂为308亿美元,集成电路的进口额分别是石油的1.5倍、农产品3.1倍、铁矿砂的4.2倍。我国已经成为全球最大的IC贸易国。使用这些IC制造的各式电子产品2007年实现销售额约8000亿美元,以销售额排名、前4位分别是手机、网络交换设备、平板电视、笔记本电脑。其中3件属于消费电子产品,可见消费电子仍是IC产业的主要推动力。      回顾过去20年半导体IC产业的发展,产业链从最初的垂直整合到现在的水平整合轨迹清晰。一方面,随着竞争的加剧,产品利润下降,IC产业开始大规模重组整合,2006年-2007年,合并、收购、重组的新闻不绝于耳。飞利浦半导体被私募基金105亿美元收购就是很鲜明的例子;另一方面,制造工艺不断演进,从90nm、65nm、45nm到未来的32nm、22nm,使得一些原本拥有雄厚实力的芯片设计公司放弃了IC制造封测的环节,比如TI在前不久就宣布32nm之后将不再涉足IC制造,到了32nm、22nm阶段,垂直整合型的IC制造公司可能只会剩下Intel一家。现在,中国已经成为全球最大的集成电路的市场,份额进一步的扩大,虽然在IC设计领域我国还十分薄弱,但是IC产业无疑是我国对外贸易的支柱产业之一。中国是全球集成电路产业转移的目的地,全球范围来看,芯片制造将向少数大厂集中,Fabless而将成为主要的商业模式。      集成电路技术发展驱动力的变迁      20世纪60年代,戈登?摩尔提出了著名的“摩尔定律”。直到现在,这一定律都在见证半导体产业的飞速发展。由于晶体管特征尺寸的减小,可以带来集成电路密度和性能上的提高,以及分摊在单元功能上成本的下降。因此,自集成电路诞生之日起,半导体产业的竞争就始终聚焦在加工尺寸的微细化上。自从上世纪80年代,CMOS(互补金属氧化物半导体)工艺成为主流工艺技术之后,CMOS一直捍卫着摩尔定律。然而,芯片的进一步小型化遇到越来越多的技术局限。在传统硅芯片技术上所能取得的进步受到物理法则的限制也越来越严重,随着集成电路的主流加工工艺进入纳米级(0.1μm)阶段,CMOS技术也开始面临挑战。而该技术能否继续有效,将直接决定摩尔定律寿命的长短。   CMOS工艺遵循等比例缩小的原则,其特征尺寸已从20世纪50年代初期的约125μm进化到现在的90nm技术代,在集成电路工业大生产中获得了巨大成功。然而,当器件特征尺寸缩小到65nm技术以后,继续缩小加工尺寸将遇到一系列器件物理的限制和互连问题的严重影响:从器件角度看,纳米尺度CMOS器件中的短沟效应、强场效应、量子效应、寄生参量的影响、工艺参数涨落等问题对器件泄漏电流、亚阈值斜率、开态/关态电流等性能的影响越来越突出,电路速度和功耗的矛盾也将更加严重。随着集成度和工作频率增加,功率密度增大,导致芯片过热,可引起电路失效。另一方面,进入纳米尺度后,互连电阻及互连电容不仅对电路速度的影响更为明显,而且会对信号完整性产生影响,逐渐成为影响电路最终性能的重要因素。   将CMOS技术推到现在的极限上,现在的技术或者工艺和材料都要发生巨大的变化,需要很多的努力,目前科学家们正在努力,前景不可预知。然而,就IC产业来讲,CMOS工艺技术的不断改进接近极限能够继续维持对收益的贡献吗?我们来看表4、5   从晶圆的价格表中,我们可以很清楚地看到,当IC制造工艺从130nm转为90nm的时候,成本成本可以降低33%,到65nm成本可以下降25%,但是再往后,工艺的进步对成本的贡献就大幅下降,到22nm功率时,成本仅仅比32nm下降了3.3%,几乎没什么贡献!此外,从晶体管的密度来看,130nm~22nm,每平方毫米晶体管的平均数量,从94K增加到1566K,这是一个很惊人的密度,但与此同时晶体管的利用率却在下降,从86%下降到了51%。那么问题出来了,CMOS工艺技术进步使成本下降幅度有限,同时晶体管的利用率在下降,那么等比例缩小的经济价值体现在什么地方呢?

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