关于蓝莓新梢温室扦插育苗环境因子调控探究.docVIP

关于蓝莓新梢温室扦插育苗环境因子调控探究.doc

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关于蓝莓新梢温室扦插育苗环境因子调控探究

关于蓝莓新梢温室扦插育苗环境因子调控探究   摘 要 温度、湿度和光照因素是蓝莓新梢温室扦插育苗的主要影响因素。蓝莓新梢温室扦插育苗环境因子调控对蓝莓育苗成活率和新苗质量的提升有着积极的促进作用。基于此,对蓝莓新梢温室扦插育苗环境因子调控问题进行了分析。   关键词 蓝莓;扦插育苗;环境因子   中图分类号:S628;S663.9 文献标志码:B DOI:10.19415/j.cnki.1673-890x.2018.06.026   蓝莓是一种具有良好经济价值和开发前景的经济作物,蓝莓果实中含有的花青素和尼克酸等物质具有抗癌功能和提升人体免疫力的功效。露地扦插、保护地扦插和组织培养是国内现阶段所常用的蓝莓繁育方式。蓝莓新梢温室扦插技术是保护地扦插育苗的常用方式,这种育苗方式有着育苗周期短、操作难度低和操作成本低的特点。现代测控仪表的应用,是提升育苗成活率和新苗质量的有效方式。   1 材料与方法   1.1 试验材料与扦插管理   本次试验中所使用的蓝莓为夏普蓝品种,选用的植株为上年培育而成的健壮新苗。扦插时间为5月,起苗时间为8月。在扦插管理阶段,首先剪去半木质化顶端新梢作为插穗,剪取的新梢长度为10~15 cm。在去除蓝莓新苗植株基部3~5 cm处的叶片以后,基部需要剪为光滑斜面,并要在利用1 000 mg?L-1的吲哚丁酸处理插穗以后,将插穗插入以苔藓为基质的育苗穴中。在这一阶段,利用吲哚丁酸处理插穗的时间为30 s,插穗插入育苗穴盘的方式为垂直插入。在扦插完成以后,相关人员需要根据小拱棚内的检测数据,对间歇喷淋控制器的喷淋时间和间歇时间进行控制,并要在调整遮阳面积和喷水形状的基础上,让小拱棚内的温度与相关的指标要求相吻合[1]。   1.2 育苗温室结构与测控仪表的配置   受经济、技术和育苗经验等多方面因素的影响,以水银柱、煤油柱和机械设备感应式检测仪表为主要研究设备的研究方式仍然是较为常用的研究方式。测控仪表的优化配置,是试验结果精确度的保障因素。本次试验过程中所使用的现代化测控设备主要有:1)数显温度调节设备;2)数显湿度调节设备;3)数显照度计。上述三种设备与时序喷淋控制设备之间的组合,可以对蓝莓育苗环境的温度、湿度和光照度进行有效调节。   1.3 育苗环境因子的调控方法   温室育苗环境主要环境因子的调控措施为现代测控仪表检测与人工操作方式相结合的调控方式。一般情况下,环境因子调控试验所涉及的育苗环境为温室内相对独立的局部环境。在温室内部不同高度和不同位置的检测值存在差异的情况下,一个监测点并不能测定温室中的所有区域的环境因子值,因而在现代测控仪表应用于蓝莓新梢温室育苗环境因子调控以后,人们需要借助多点检测法,完成育苗环境不同位置的多点检测,进而对育苗环境中不同位置的因子场分布情况和变化规律情况进行调控。育苗环境因子的调控方法主要涉及以下内容:1)温室育苗环境的监控;2)温室外层一级调控方法;3)环境因子检验方法;4)小拱棚内育苗环境的二级调控及小拱棚内扦插育苗适宜环境的控制。   2 蓝莓育苗环境主要环境因子的调控   2.1 温度调控   气温和育苗基质温度是育苗环境温度的决定因素。由人工操控的电动卷帘机、热光灯、保温棉被和遮阳网等设备是应用于气温和育苗基质温度控制的主要设备。设置于蓝莓大棚外的温度测控仪表是用于检测气体温度的主要设备。在外界气温高于温室气温,且温室气温需要提升的情况下,电动卷帘机可以将保温棉卷至最小状态,并会在调节温室塑膜缝隙的基础上,增加温室内外的空气交换量[2]。如果蓝莓培育过程中需要降低育苗环境气温,相关人员需要采用增加遮阳面积和调节塑膜缝隙的方式。在温室和小拱棚全部被遮阳网遮蔽以后,相关人员仍然需要进行降温处理。此时开启温室主水管,可以借助可调喷头向小拱棚喷淋井水,这一措施可以在降低水温的基础上,降低小拱棚内的温度。   喷淋设备也是温度调控过程中不可缺少的设备。喷淋设备的喷淋时间、喷淋间隔时间和喷水形状主要由人工操作完成。在蓝莓大棚内部需要降温的情况下,人们可以通过增加喷淋时间或缩短喷淋间隔的方式,实现降温效果,在调整喷淋时间或喷淋间隔的同时,相关人员也需要将喷头调节为喷点状水或喷细丝状水的喷淋状态,并要在夜间或阴雨天气,将小拱棚塑料薄膜和遮阳网调节至全覆盖保温状态。此时,蓝莓嫩梢扦插育苗适宜温度需要控制在20~35 ℃。   育苗基?|温度的调控需要与湿度调控措施相结合,气温调节、喷水时间调节和喷水形状的调节也是调整育苗基质温度的有效措施。在需要增加基质温度的情况下,人们需要在保证湿度的前提下,减少喷水时间,进而在降低基质内部漏过的水量的基础上,降低基质的温度。根据前文论述,本次试验过程中所使用的育苗基质为苔藓。水量大小和气温控制是基质温度

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