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纯镍金相腐蚀中化学抛光方法研究 　　作者简介： 赵堂昌(1982-),男,工程师,主要从事与金属材料相关的现场技术工作. 　　摘要： 对纯镍化学抛光方法中抛光剂的组成、抛光温度和抛光时间进行了研究.结果表明:用正交试验方法确定金属的抛光配方可行,此方法可以用于其他金属或合金;纯镍抛光的较佳腐蚀液配方的体积分数为正磷酸4.8%、硫酸66.7%和盐酸28.5%,腐蚀时间为15 min;该方法可以一次进行多组试样的化学抛光. 　　关键词： 化学抛光; 抛光剂; 抛光温度; 抛光时间; 正交试验 　　中图分类号： TG 175.3文献标志码： A 　　A Study on Metallurgical Corrosion of Pure Nickel 　　by Chemical Polishing 　　ZHAO Tong??chang, LING De??kui 　　(Nickel Cobalt Research and Engineering Institute, 　　Jinchuan Group Co., Ltd., Jinchang 737100, China) 　　Abstract： The experiments were conducted on the polishing agent that is used in the chemical polishing of pure nickel.The study of the composition of the agent,polishing temperature and polishing time proves the feasibility of the orthogonal method in determining the formulation and the applicability of this method to other metals or alloys.It is also found that by means of the orthogonal method favorable results can be obtained from a series of pure nickel metallographic samples by chemical polishing. 　　Key words： chemical polishing;polishing agent; polishing temperature; polishing time; orthogonal experiment 　　0前言 　　一些小的科研院所具有为生产单位提供金相检测的职能,但又不具有相关的金相检测设备,需使用其他单位的检测设备,辅助时间耗时较长,同时传统机械抛光机一次磨抛的样品数量有限,造成检测效率低下;在实际检测工作中发现纯镍的金相样品制备较难掌握,需要有一定的经验积累.为此急需找到一种易于操作、效率高和不依赖抛光设备的抛光方法. 　　本文通过对纯镍化学抛光方法中抛光剂的组成、抛光时间以及抛光温度对抛光效果的影响进行了探讨,提出了合理的纯镍化学抛光工艺. 　　1试验方法 　　1.1抛光剂的选择 　　选择硫酸、盐酸和磷酸作为抛光剂的主要成分.根据前期试验,分析了各成分的主要作用. 　　硫酸为主要腐蚀剂,如果成分比例太多,会在纯镍表面形成一层钝化膜,阻止酸液的继续腐蚀. 　　盐酸为辅助腐蚀剂,有助于纯镍试样表面钝化膜的溶解. 　　正磷酸起防护作用,在试样表面形成一层保护膜,防止腐蚀过度. 　　表1为腐蚀剂中各组分最大的体积分数.上海有色金属第35卷 　　第2期赵堂昌,等:纯镍金相腐蚀中化学抛光方法的研究 　　 　　 　　表1腐蚀剂中各组分最大体积分数 　　Tab.1Maximum volume fraction of each 　　component in etchant 　　组分硫酸盐酸正磷酸体积分数/%904030 　　 　　1.2试验方案 　　根据腐蚀液各成分的最大比例和正交试验法,确定从大到小等级、试验次数和试验量.将试样用1 200目水砂纸打磨作为最终精磨.镍抛光正交试验得到的参数见表2. 　　 　　表2镍抛光参数 　　Tab.2Nickel polishing parameters 　　编号正磷酸/ 　　ml硫酸/ 　　ml盐酸/ 　　ml合计/ 　　ml抛光时间/ 　　min1305010120522030301205310704014054590201255520901014010630703014010753040105108105020120109550301