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过氧化氢抛光液体系中钌的化学机械抛光研究-本原扫描探针显微镜
32 5 摩 擦 学 学 报 Vol 32 No 5
第 卷 第 期
2012 9 Tribology Sept ，2012
年 月
过氧化氢抛光液体系中钌的化学机械抛光研究
*
， ， ， ，
储向峰 王 婕 董永平 乔红斌 张王兵
( ， 243002)
安徽工业大学化学化工学院 安徽马鞍山
: (H O ) ， X
摘 要 本文研究了过氧化氢 2 2 抛光液体系中金属钌的化学机械抛光行为 采用电化学分析方法和 射线光电
(XPS) ， (AFM) ．
子能谱仪 分析了氧化剂和络合剂对腐蚀效果的影响 利用原子力显微镜 观察抛光表面的微观形貌 结果
: ， (CH COOH) H O ．
表明 在过氧化氢抛光液体系中 金属钌表面钝化膜的致密度和厚度与醋酸 3 和 2 2 的浓度有关 抛光液
中醋酸主要通过促进阳极反应的进行从而增强抛光液对金属钌的化学作用，CH COOH 作为络合剂比三乙醇胺(TEA)
3
(C H O ) ． H O ， ，
或酒石酸 4 6 6 得到的抛光速率更高 低浓度 2 2 通过增强抛光液对金属钌的化学腐蚀 抛光速率增大 较高浓
H O ， ． XPS
度 2 2 可能通过在金属表面形成较厚的氧化膜 抛光速率下降 图谱说明钌片浸泡在含醋酸介质过氧化氢体系
， 、 2∶ 3 ， ，
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