TFTLCD残像原理和分析加强篇二.docVIP

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TFTLCD残像原理和分析加强篇二

TFTLCD残像原理和分析加强篇二   摘 要:残像是TFT-LCD的一种显示特性,主要表现为当液晶显示器长时间显示同一个画面,在把画面切换到下一个画面时,原先的画面会残留在下一个画面中。本文的加强篇二从材料面的彩膜、液晶、配向膜及工艺面的配向膜工程、ODF工程导致的残像具体分析了其原因和改善方法。   关键词: 液晶显示器;残像;配向膜   中图分类号:TN141.9,TN873+.93   文献标识码:A   The Theory and Analysis of TFT-LCD Image Sticking-Upgrade II   JIAO Feng, WANG Hai-hong   (RD Center, Nanjing CEC PANDA LCD Technology Co., Ltd., Nanjing Jiangsu 210033, China)   Abstract: Image Sticking is a display behavior of TFT-LCD. Mainly expressed when a static image remains displayed on the same screen for a long time, the original image will be left when the screen switches to the next image. The upgrade part II of the paper specially analyze mechanism and improvement solution of image sticking from material include color filter, liquid crystal, alignment film and PI process and ODF process.   Keywords: TFT-LCD; image sticking; alignment film   引 言   近年来液晶显示器以其低工作电压、低功耗、低辐射、低空间占有率以及轻薄美观等优势,不断普及已成为市场的主流,随着人们的认识水平和对显示要求的不断提高,对于显示性能也提出了越来越高的要求,如高亮度、高对比度、高响应速度等,而且对于整个显示器的画质,如姆拉、残像的要求也越来越苛刻。而残像问题一直影响着TFT-LCD画面品质,尤其是长期画面品质的重要问题之一[1-3]。本文的加强篇二将从材料面的彩膜、液晶、配向膜及工艺面的配向膜工程、ODF工程导致的残像具体分析其原因和改善方法。   1 材料面要因和对策分析   1.1 彩膜材料-附加电场引起的残像分析和对策   如图1所示,在IPS液晶模式像素单元中,由于作为Bus Line的Vgoff电压一般为负的十几伏,而像素电极和共通电极只有几伏,在像素中将形成图1中左边的等效电路图。黑色矩阵BM在靠近液晶层一侧受到扫描线上的-10V电压将感应出正电荷,而相应的黑色矩阵内部就会产生与正电荷等量的负电荷,这些负电荷将部分注入到黑色矩阵相邻的色层中,使色层也带负电荷[4]。     如图2所示,由于色层带有负电荷,使得液晶中存在的正电荷离子向色层这一侧配向膜上聚集累积。随着时间的推移,当这种正电荷离子的浓度形成的反向直流电场足以改变液晶显示装置的透过率时,就会形成所谓的残像。   这里发生残像的原因是Bus Line的高电压感应BM造成的,只要能将Bus Line的高电压屏蔽掉就可以消除这一现象。如图3所示,可以通过使用1011~1012Ω·cm的低电阻液晶形成液晶电阻,屏蔽纵向电场,从而抑制残像的发生。   综上所述,通过使用低电阻液晶屏蔽纵向电场的方式可以抑制Bus Line感应电场造成的DC成分,抑制残像的发生。   1.2 液晶材料-残像分析和对策   在液晶材料方面引起残像的原因主要是无机离子或有机离子。含有高杂质的液晶,都会导致低电压保持率(Low Voltage Holding Ratio)、高离子密度(High Ion Density)、低电阻率(Low Resistivity)。   在液晶组成物中一般都存在或多或少的离子性物质,当液晶的介电常数Δε较大时,就会很容易分解出来,自由离子的数量变多,容易形成Simi或残像。液晶厂家一般要采取以下方法来改善:提高液晶的电阻率;开发高信赖性的液晶单体;不带入少量离子性不纯物的高提纯能力;先进液晶单体混合技术等。液晶面板厂家一般要采取以下方法来改善:进行关键工艺管理,创造无Ion环境氛围;进行与其它材料的匹配优化,如封框胶和配向膜材料的亲和性实验等。     1.3 配向膜材料-残像分析和对策   在配向膜材料方

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