多元喷射电沉积制备硅基铜钴纳米多层膜试验研究-机械制造及其自动化专业论文.docxVIP

万方数据 万方数据 Nanjing University of Aeronautics and Astronautics The Graduate School College of Mechanical and Electronic Engineering Experimental Research of Silicon-based Nano Cu/Co Multilayer Prepared by Jet Electrodeposition A Thesis in Mechanical Manufacture and Automation by Yi Dugang Advised by Prof. Shen Lida Submitted in Partial Fulfillment of the Requirements for the Degree of Master of Engineering January, 2014 万方数据 万方数据 承诺书 本人声明所呈交的硕士学位论文是本人在导师指导下进 行的研究工作及取得的研究成果。除了文中特别加以标注和致 谢的地方外，论文中不包含其它人已经发表或撰写过的研究成 果，也不包含为获得南京航空航天大学或其它教育机构的学位 或证书而使用过的材料。 本人授权南京航空航天大学可以将学位论文的全部或部 分内容编入有关数据库进行检索，可以采用影印、缩印或扫描 等复制手段保存、汇编学位论文。 （保密的学位论文在解密后适用本承诺书） 作者签名： 日 期： 南京航空航天大学硕 南京航空航天大学硕士学位论文 多元喷射电沉积制 多元喷射电沉积制备硅基铜/钴纳米多层膜试验研究 万方数据 万方数据 万方数据 万方数据 摘 要 喷射电 沉积 是电 化学 沉积 的 分支之一， 作为 一种 局部 高速 电沉 积技 术， 其 具有热量 和物质 传递 速率 高、 极限 电流 密度 大以 及沉 积效 率高 等诸 多优 点， 理论 上 可以通 过合理 控制电 流密 度及 沉积 时间 制备 出纳 米金属多 层膜 。本 文在 前期 金属 基体 表 面进行 多层 膜 研究基 础上 ，围 绕多 层膜 巨磁 阻、 介电 等功 能， 开展 了硅 基表 面多 层膜 制 备研究 。基 于 多层膜 交替工 艺在金 属基 体研究 阶段 已经较 好的实 现，本 文将 研究重 点聚 焦在了 硅 /多层 膜界面 研究， 针对界 面如 何更好 的结 合开展 了大量 研究 工作 ， 具体 如下： （1）进行了喷射流场的仿真及试验研究。对喷嘴宽度为 1mm 的喷嘴，采用 FLUENT 软件 对不同喷嘴入口速度（流量）和极间距离△下的流场进行了仿真优化分析，选择喷嘴下方 1mm 长度的区域为研究对象，仿真结果显示当极间距离为 2mm 时的流场均匀性最好。在△=2mm 下 进行了定点喷射电沉积工艺试验，研究表明仿真分析很好的反映了电沉积现象，喷嘴入口速度 为 0.40m/s（Q=485L/h）时，沉积层定域性最好，并选取△=2mm，Q=485L/h 时作为后续工艺 试验的参数。 （2）在抛 光处 理后的 硅表面 进行 喷射电 沉积 金属铜 试验研 究，提出 了一种 制备纳 米 金属颗 粒的 新方 法（ 申请 国家 发明 专利 ），该 工艺 方法 操作 简单 、经济 性好 、环境 友好 。 通过 SEM 表 征各参 数下纳 米金 属颗粒 的 粒 度及分 布均匀 性，结 果表 明，随 着硅基 表面粗 糙度的 减小 ，电沉积颗粒形状主要为理想的球形，且大小逐渐减小，均匀性也随之逐渐提高， 当粗糙度达到 0.023μm 以下时，颗粒均落在纳米尺度范围，并且分布均匀性进一步提高；试验 表明当喷射电沉积电流密度为 300A/dm2，扫描速度为 360mm/min 时，纳米颗粒不仅大小均匀， 而且分散良好。 （ 3） 从 界面 设 计的 角 度， 对 不同 粗 糙度 、 刻 蚀工 艺 下的 硅 /多 层膜 界 面膜 基结 合力 展开了 研究 。研 究表 明硅 与金 属多 层膜 间的 附着 力主 要为 机械 力。 基于 此 ，本文 采用 本 课题组 自有 硅特 种加 工技 术（ 发明 专利 ： CN101101937A），设 计出 一种 特 殊的基 面铆 接 结构 ，即一 种利用 电火 花电解 复合作 用硅 表面后 所获 得的大 小孔洞 叠加 的 特殊表 层形貌 。 与硅基 刻蚀 工艺 对比 研究 表明 该种 特殊 界面 结构 具有 更多 的机 械连 接点 ， 多层膜 测试 研 究表明 ，界面 结合力 提高 2 倍以 上。 （4）此 外，本文 还对 电火花 电解 工艺下 硅基 Cu/Co 多层 膜进行 了电 化学耐 腐蚀性 能 的测试 分析研 究