从杜邦光掩模的成功发展看中国集成电路产业的机遇和挑战-工商管理(MBA)专业论文.docxVIP

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上海交通大学 学位论文原创性声明 本人郑重声明 所呈交的学位论文 是本人在导师的指导下 独立进行研 究工作所取得的成果 除文中已经注明引用的内容外 本论文不包含任何 其他个人或集体已经发表或撰写过的作品成果 对本文的研究做出重要贡 献的个人和集体 均已在文中以明确方式标明 本人完全意识到本声明的 法律结果由本人承担 学位论文作者签名 日期 年 月 日 上海交通大学 学位论文版权使用授权书 本学位论文作者完全了解学校有关保留 使用学位论文的规定 同意学校 保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子版 允许论文被查 阅和借阅 本人授权上海交通大学可以将本学位论文的全部或部分内容编 入有关数据库进行检索 可以采用影印 缩印或扫描等复制手段保存和汇 编本学位论文  保密在 年解密后适用本授权书 本学位论文属于 不保密 请在以上方框内打 学位论文作者签名 指导教师签名 日期 年 月 日 日期 年 月 日 摘 要 近20年来 集成电路工业每年的增长都居世界领先地位 这种增长的主要 技术动力来自于硅片制造光刻技术的成熟发展 而硅片光刻技术中光掩模制造业 的快速发展正是集成电路行业长盛不衰的关键 光掩模制造是集成电路产业链中 工艺 设备 管理技术要求最高 资金投入比重最大的瓶颈工序 任何商业化的 集成电路制造都离不开光刻掩模版这一核心产业 近年来我国政府充分认识其重 要地位 制定了借助外资快速启动这一项目的对策 帮助国内集成电路工业提高 了生产能力 提升了技术档次 减少了对进口集成电路高度依赖的被动局面 本 文旨在通过对杜邦光掩模制造业在中国的成功发展经验的分析 探讨在集成电路 行业激烈竞争环境下 如何利用我国作为最大发展中国家大市场的有利条件 抓 住机遇 发展集成电路这一国民经济 瓶颈产业 打破发达国家对此类高科技 行业的垄断 在市场竞争中谋求生存和发展的有效途径 首先 本文分析了杜邦光掩模发展的成功经验 研究集成电路产业发展演变 的趋势 对目前我国集成电路生产企业的生存和发展环境 及光掩模产业发展概 况进行了考察 指出世界集成电路行业走出低谷后 给我国集成电路企业带来了 新的发展机遇和战略选择 提出应以此为契机 实施进一步增资 扩容 上等级 先在中国市场站稳脚跟 将行业转机作为集成电路产业发展的新起点 实现新的 突破 其次 本文对集成电路产业链进行了分析 对十五期间我国集成电路行业 规划进行了研究 将集成电路行业中冷门与热门产业的特点与风险呈现在行业投 资者与管理者面前 使人们对整个市场容量及产业规模有一个清晰的认识 再次 本文对世界集成电路行业的演变进行了研究 指出世界集成电路生产重心将从发 达国家向发展中国家转移 消费重心将在东西方达到平衡 中国作为集成电路生 产大国已初见端倪 集成电路特别是光掩模产业的第二个高赢利期即将来临 并 据此建议杜邦光掩模公司高层果断决策在中国的进行再投资 避免失去既得的中 国市场 最后 本文对集成电路产业项目在中国的实施提出了一些规模分析和投资建 议 关键词 集成电路行业, 集成电路光掩模产业, 产业演变及发展, 中国企 业 ABSTRACT The latest 20 years, the amount of IC yearly growing was occupied in the lead of the world market. The power of this kind of growing is belonging to well-developing of silicon chip reticle technology, and to promoting the technology of reticle is photomask industry which is the key technique to make the IC industry available. Photomask industry is such an IC section that it needs excellent technology, up to date equipments and management skills, also it is one of the most demands of funds as investment. Today any commercial IC making can not be apart from the core industry ---Photomask. China government has realized the significant s

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