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二维硼碳氮纳米片层薄膜的控制生长及性质研究-材料物理与化学专业论文
Classified Index: TG454 U.D.C: 621.791
Dissertation for the Master Degree of Engineering
CONTROLLED GROWTH OF BORON CARBONITRIDE NANOSHEETS AND THEIR PROPERTIES
Candidate:
Xiao Chang
Supervisor:
Prof. Yu Jie
Academic Degree Applied for:
Master of Engineering
Speciality:
Material Physics and Chemistry
Affiliation:
Shenzhen Graduate School
Date of Defence:
June, 2010
Degree-Conferring-Institution:
Harbin Institute of Technology
摘 要
自从石墨烯材料被发现以来,其独特的性质以及在电子器件方面的应用前景, 吸引着越来越多的科研人员研究二维纳米材料。由于六方氮化硼具有类似于石墨 的结构,并且在某些方面的性质更优于石墨,因此许多研究者把注意力转向合成 二维六方氮化硼材料。氮化硼纳米片具有与碳纳米片互补的物理化学性质,如半 导体性、高温稳定性和高化学稳定性,因而在紫外发光纳米电子器件、高温催化 剂载体、电子场发射及自清洁涂层等方面具有潜在应用。而通过对氮化硼材料掺 杂获得的硼碳氮材料具有改进的导电性,并可得到可调的能带结构,因而有其独 特的性质和应用。
本论文研究了用微波等离子体化学气相沉积法在(001)取向单晶硅面片上生 长二维硼碳氮(BCN)纳米片层薄膜及其结构与性质,基于已经建立的利用 N2-BF3-H2 反应体系制备氮化硼(BN)二维纳米片的方法,通过在反应气相中引入 甲烷的方法来制备硼碳氮三元纳米片层薄膜。通过对生长工艺参数的研究,发现 甲烷的掺入明显影响硼碳氮纳米片层薄膜的生长,如:未掺入甲烷前,氮化硼纳 米片的最佳沉积压强为 6 kPa,并且低于 4 kPa 压强时不能生长,而掺入甲烷后通 过控制参数,BCN 纳米片的最佳生长压强为 2-3 kPa;甲烷在沉积系统中能加速硼 碳氮纳米片的生长。同时在沉积的过程中引入偏压,研究偏压对 BCN 纳米片生长 的影响。本论文系统研究了各种参数包括反应压强、功率、微波偏压、各种气体 流量对 BCN 纳米片层薄膜形貌以及性质的影响,并分析了 BCN 纳米片层薄膜的 生长机制。结果表明,通过参数调节可以得到排列方向、尺寸、厚度、形状、密 度以及碳含量可控制的 BCN 纳米片层结构。扫描电子显微镜(SEM)图片显示这 些定向排列的纳米片状材料的大小大多集中在 0.3 μm 到 2.1 μm 之间,而厚度通过 SEM 观察也在 20 nm 以下。进一步通过投射电子显微镜(TEM)的测试,发现在 片层边缘由 2-20 个原子层组成,呈梯形排列类似于刀刃的尖端,且晶面间距为 0.34 nm 左右,与石墨以及六方氮化硼晶体的(002)面层间距近似。通过对 BCN 纳米 片状材料的红外以及拉曼光谱的研究,发现在不同参数条件下沉积的 BCN 纳米片 具有明显不同的红外以及拉曼峰,从而进一步阐述了参数对沉积结晶质量的影响。 光致发光测试表明,随着碳含量的增加,发光峰从 375 nm 移到 530 nm,当碳含量 过大时发光性质消失,失去半导体性。
关键词:化学气相沉积;纳米片层;硼碳氮;薄膜;光致发光
ABSTRACT
Two-dimensional (2D) nanomaterial is a novel nanomaterial with unique structure. Since the discovery of graphene, increasing attention has been concentrated on the research of 2D nanomaterials due to their unique properties and potential applications in electronic devices. Hexagonal boron nitride (hBN) is similar to graphite in structure and possesses some properties superior to graphite. Therefor, many researchers interest in 2D BN nanomaterials. BN nanosheets have many properties c
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