氧化铈抛光粉粒度分级控制的研究.docVIP

氧化铈抛光粉粒度分级控制的研究 　　摘 要：通过国内外稀土抛光粉的粒度及其分布的分析比较，通过精密分级考察了抛光粉最大颗粒对抛光过程划痕的影响。研究发现，控制最大颗粒的粒径，可有效地消除抛光的划痕现象。 　　关键词：稀土 抛光粉 粒度 　　氧化铈抛光粉在玻璃的抛光方面具有优良的性能。随着尖端技术的快速发展，对抛光的要求越来越严格，例如，对于制造LIS中不可缺少的光掩模，高密度记录磁盘玻璃基板，几乎接近极限状态。因此，对氧化铈抛光粉的质量和性能要求也随之提高。从抛光机理分析来看，它是机械作用、物理化学作用和化学作用的综合，其中机械作用是基本的，化学作用是重要的.同时还存在着流变现象的影响。在抛光的初始阶段，Ce02去除表面凹凸层并呈现出新的抛光面的过程，主要是机械作用的过程。随后，由于抛光混合物中含有水，在抛光过程中形成H30+离子，在玻璃表面H30+离子与Na+离子相互交换而与玻璃形成水解化合物。由于Ce02抛光粉具有多价的性质，Ce3+/Ce4+的氧化还原反应使硅酸盐晶格破坏，通过化学吸附作用，使玻璃表面与抛光剂接触的物质包括玻璃及水解化合物被氧化或者形成（Ce-O-Si）络合物而被除去。 　　从机械机理可知，氧化铈的纯度、硬度、粒度是最主要的因素，决定硬度的主要因素是煅烧的温度工艺和条件。粒度主要影响抛光力，最大粒度往往对玻璃表面的划痕起重要的作用，而粒度分布还影