等离子体CVD法制备氮化碳涂层的理论与实验研究-机械制造及其自动化专业论文.docxVIP

Nanjing University of Aeronautics and Astronautics The Graduate School College of Mechanical Electrical Engineering Theoretical and Experimental Research on the Preparation of Carbon Nitride by Plasma CVD Method Supported by National Natural Science Foundation of China(No A Thesis in Mechanical Manufacture Automation by Meng Zhaosheng Advised by Associate Prof. Xiang Bingkun Submitted in Partial Fulfillment of the Requirements for the Degree of Master of Engineering March, 2015 承诺书 本人声明所呈交的硕士学位论文是本人在导师指导下进行的研究 工作及取得的研究成果。除了文中特别加以标注和致谢的地方外，论文 中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果，也不包含为获得南京航 空航天大学或其他教育机构的学位或证书而使用过的材料。 本人授权南京航空航天大学可以将学位论文的全部或部分内容编 入有关数据库进行检索，可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、 汇编学位论文。 (保密的学位论文在解密后适用本承诺书) 作者签名： 日 期： 南京航空航天大学硕士学位论文 南京航空航天大学硕士学位论文 等离子体 等离子体 CVD 法制备氮化碳涂层的理论与实验研究 I I PAGE PAGE IV 摘 要 晶体氮化碳材料是一种在自然界未被发现的新型超硬材料，α、β、立方和准立方相氮化碳 的体弹性模量都能够媲美甚至超过金刚石。另外，优异的化学惰性和耐磨性也使得晶体氮化碳 有望在刀具涂层方面有突出的表现。 本文开展了等离子体 CVD 法制备氮化碳材料的理论与实验研究，主要内容包括计算仿真、 机理分析和实验验证三个部分。本文主要研究及结论如下： (1) 利用 Material Studio 软件进行了第一性原理化学吸附仿真研究。研究表明：N2 分子在 金刚石过渡层和硬质合金表面不产生化学吸附，N 原子在其表面上产生化学吸附；N 原子在硬 质合金表面吸附能比在金刚石过渡层上有更大的值；N 原子在硬质合金表面比在金刚石过渡层 上更易于与基底成键，氮化碳更易于在其上直接形核和生长；若采用直流电弧等离子体喷射法 制备晶体氮化碳膜，可以通过增大反应气体配比中 N2 分子量和提高电弧功率密度，产生更多活 性 N 原子，以便提高氮化碳膜形核和生长效率。 (2) 对等离子体 CVD 法制备晶体氮化碳涂层的机理进行了研究。有别于王季陶提出的 CVD 法制备金刚石膜的“化学泵”理论，提出了应用于氮化碳涂层制备过程的新型“化学泵” 模型；在金刚石过渡层上沉积氮化碳涂层时，基底温度对金刚石相和氮化碳相的刻蚀与沉积产 生显著影响，并提出了在适当温度下金刚石相刻蚀和氮化碳相沉积同时进行的假设模型；当氮 源/碳源配比在 100：1~10：1 时，氮化碳膜才易于成核和生长，并且碳源浓度增长对氮化碳的 晶形和晶粒大小影响很大；沉积气压与碳源浓度有交互作用，共同对氮化碳材料的形貌有显著 影响。 (3) 采用直流电弧等离子体喷射法分别在金刚石过渡层和硬质合金上开展制备氮化碳实验， 并对实验结果与仿真结论和理论分析进行对比研究。对在不同基底温度下金刚石过渡层沉积的 氮化碳涂层进行 SEM，XRD 等测试，研究表明基底温度对金刚石过渡层上制备的氮化碳涂层 的晶形和晶粒大小产生显著影响；首次在硬质合金基底上直接制备出了晶形较为完好的氮化碳 晶体涂层，并对在不同碳源浓度条件下于硬质合金上沉积氮化碳涂层进行 SEM，XRD 等测试， 碳源浓度和基底选择等对氮化碳制备的影响与机理分析、仿真结果相一致。 关键词：氮化碳，第一性原理，等离子体 CVD 法，直流电弧等离子体喷射法，刀具涂层 ABSTRACT Carbon nitride is a new kind of superhard material and have not been found in nature. So far, theoretical researches generally believe that the body elastic modulus of α、β、cubic、quasi-cubic carbon