膨润土的加工技术.ppt

有机覆盖剂的选择： 实际制备中，一般选用C16以上链的烷基铵盐，较少单独使用单C12链的烷基铵盐（但它可与高碳数长链烷基配合使用）。 国外常用的季铵盐有：双十八铵盐，如[（C18H37）2N（CH3）2]+Cl-；ODB-二甲基双十八烷基苄基氯化铵[C18H37N（CH3）2C6H5CH2]+Cl-；OT-三甲基十八烷基氯化铵[C18H37N（CH3）]+Cl-；[R2N（CH3）2]+Cl-，R为12，14，16，18烷基，其中以双十八铵盐的性能最佳。 目前我国用的覆盖剂一般是二甲基双十八烷基苄基氯化铵和三甲基十八烷基氯化铵等18个碳原子类胺化物。 混合使用两个以上覆盖剂，在某些性能和用途方面较单一覆盖剂的效果要好。 * 工艺的确定： 通常条件下，制备蒙脱石层间有机化合物的蒙脱石矿物纯度最好在90%以上。 原料一般需预先提纯。 有机插层覆盖剂的最佳覆盖量一般出现等摩尔覆盖状态或稍多一些。覆盖环境主要指介质的pH值、共存的其它化学物质以及温度、反应时间等因素。有机离子在层间的交换反应一般比较快，其交换反应速度决定于有机插层覆盖剂在介质中的溶解度，介质中溶解性比较好的有机插层覆盖剂在常温反应2 h左右即可；介质中溶解度低的有机插层覆盖剂需要在加热条件反应，并延长反应时间。蒙脱石层间有机化合物的干燥温度一般应控制在130℃以下。温度过高将完全除去层间水，层间压缩固结，而温度高于180℃，有机插层覆盖剂将逐步分解。因此，蒙脱石层间有机化合物在干燥后其层间一般仍保持1%～3%的含水量。 具体的工艺需通过实验来确定。 * 形成机理 * 朱建喜等人[94]借助XRD研究了HDTMA－柱撑蒙脱石层间域内有机离子团的排布模式及其随柱撑液浓度升高而发生演化的过程。认为，在不同柱撑液浓度下，HDTMA可以在蒙脱石的层间域内形成单层平卧相、双层平卧相、倾斜单层相、假三层相和倾斜双层相等多种空间排布模式； HDTMA的排布方式既可以以一种相态出现，又可以数种相态并存；HDTMA的空间排列方式随着柱撑液浓度的增大，其演化模式为：单层平卧、双层平卧、倾斜单层、假三层、倾斜双层。HDTMA在蒙脱石层间排列模式示意图见下图。 * * (2)蒙脱石层间无机化合物 概述： 蒙脱石层间无机化合物是利用蒙脱石的层状结构的可膨胀性、阳离子的可交换性能，将一些无机阳离子插入其层间，把蒙脱石的层与层撑开而形成的化合物。产物若再经进一步煅烧加热，层间插层剂则脱水和脱羟基，转化成稳定的氧化物柱体，形成二维的微孔材料，此时可称之为层柱或柱撑粘土或柱撑蒙脱石（Pillared Interlayer Clay/Montmorillonite） * 采用的无机阳离子插层剂一般是其聚合羟基多核阳离子形式，它包括Al、Zr、Ti、Cr、Fe、Si、Ni、Cu、V、Co、Ce、Ga、Ru、Ta、La或其复合型等，而研究最多是具有较大体积和较高电荷的Al和Zr，其聚合羟基阳离子形式分别表示为：[Al13O4(OH)24(H2O)12]7+ (Al13 Keggin 离子)和[Zr4(OH)14(H2O)10]2+。聚合羟基多核金属阳离子可由水合金属离子在一定的OH/M摩尔比条件下，经水解形成： Mn+ + OH－ + H2O = [Mx(OH)y(H2O)z]m+ + H+ * 制备 制备工艺： 原料 浸泡 提纯 改型 交联洗涤 干燥 焙烧 成品 * 影响因素： 蒙脱石层间无机化合物的制备受到许多因素的影响，其中包括粘土的组成和结构，阳离子的交换能力的大小和特性，聚合羟基阳离子的聚合程度及其在粘土层间转换成氧化物柱体的结构和特性，聚合羟基阳离子与粘土层间的作用等。 * 一般认为，成功制备蒙脱石层间无机化合物要求： （1）良好的基质。钠质蒙脱石具有较强的可膨胀性和阳离子交换性能，是制备蒙脱石层间无机化合物的理想基质； （2）制备适宜的聚合羟基离子。影响制备聚合羟基阳离子的工艺因素较多，其中包括金属离子浓度、酸碱性或水解程度、反应温度、老化温度和时间、反离子的类型以及制备方法等； （3）悬浮液矿浆浓度要适宜。相对稀的悬浮液浓度可提高蒙脱石的离子交换能力以及防止其产生沉淀，但过稀的悬浮液浓度易凝聚成胶体而影响制备效果； （4）洗涤。 洗涤能够降低悬浮液的离子强度和提高其pH值，从而导致蒙脱石充分膨胀，有利于聚合羟基Al离子进入蒙脱石晶层间。 * 蒙脱石层间无机化合物形成过程示意图 * (3)蒙脱石层间无机-有机化合物 制备