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基于InAs纳米体系的电子结构和输运特性第一性原理研究-物理学专业论文
湖 南 大 学
学位论文原创性声明
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摘 要
以传统 Si 材料为主的场效应晶体管半导体工业和电子器件以指数增加,实现 Si 晶体管在电路高度集成,现代半导体电子器件不断微型化,然而目前传统 Si 技术已经达到物理极性,随着器件尺度减小,Si 纳米器件带来许多问题如:发热、 低迁移率和电流开关比等,迫使人们寻找满足微纳米电子器件高性能要求的其他 材料。 III-V 族半导体, 如 InAs、GaSb,具有优于 Si 材料输运特性,具有优异电 学特性,可以突破 Si 技术瓶颈,成为将来高性能半导体纳米电子器件的较佳选择 材料。本文基于密度泛函理论运用第一性原理方法,研究 InAs 纳米线在量子尺寸 效应和表面效应作用下电子结构和输运特性的变化,研究组份比、应力和掺杂对 GaSb/InAs 核壳纳米线电子结构和载流子迁移率调制作用,以及研究 InAs 与二维 材料的纳米复合结构光学吸收特性,获得一些结果如下:
首先,我们应用第一性原理计算方法研究闪锌矿和纤锌矿InAs纳米线电子 结 构,分析量子尺寸效应和表面效应对纳米线电子结构影响机理,比较InAs纳米线 表面原子悬挂键饱和前后电子结构和输运性质变化,解释钝化方法对纳米线输运 特性改善的原因。 研究结果表明InAs纳米线在不同晶体结构和生长方向条件下,
纳米线的带隙随着直径增大而减小,带隙变化量与直径D形成 ΔEg
= β / Dα 非线性
函数关系;导带(价带)能量随着纳米线直径减少而降低(增大),导带受量子效应的 作用比价带更显著,引起导带变化幅度大于价带,导致纳米线带隙与直径的非线 性变化。此外, InAs纳米线载流子的有效质量值随直径增大而减小,利于载流子 迁移率的提高,特别是,闪锌矿 [111]方向生长的InAs纳米线直径超过26 ?时, 电子有效质量小于其空穴有效质量,利于电子载流子在InAs纳米线的输运。用赝 氢原子饱和纳米线表面悬挂键,消除带隙中表面态,减少电荷密度在表面分布, 降低载流子在表面散射,同时通过这种钝化方法减小电子有效质量,促进纳米线 迁移率提高。
其次,研究应力以及核 /壳组份比例对闪锌矿 [111]方向和纤锌矿 [0001]方向 GaSb/InAs核壳 (core-shell)纳米线电子结构的调控。从计算结果,我们发现沿着 [111]方向生长的闪锌矿结构 GaSb/InAs核壳纳米线受单轴的压缩应力作用后,其 半导体能带对方方式发生第二类对齐到第一类对齐改变,并伴随直接带隙到间接 带隙转变的发生,但是沿着纤锌矿[0001]方向生长的GaSb/InAs核壳纳米线,无论
在单轴压缩应力还是拉伸应力作用下,都保持原来的半导体能带第二类对齐方式。 与此同时,改变GaSb和InAs在核壳纳米线的核/壳组份比例实现带隙和载流子有效 质量可调;位于核壳纳米线内部的GaSb纳米线直径在不变情况下,核壳纳米线能 隙随着外层InAs厚度增加而减小,对结果进行拟合得出一种线性减小的关系,预
言外层InAs增加到某个临界厚度时,核壳纳米线的能带结构出现零带隙,发生半
导体到金属性质的改变;调节 InAs纳米线厚度,在闪锌矿 [111]方向 GaSb/InAs核 壳纳米线中,实现选择不同输运载流子(电子、空穴)作为主导的输运特性。
接下来,研究Zn原子对不同生长方向GaSb/InAs核壳纳米线p型掺杂行为,运 用形变势理论,计算 GaSb/InAs核壳纳米线经 Zn原子掺杂前后电子迁移和空穴迁 移率,同时比较 Zn掺杂 GaSb/InAs二维异质节薄膜电子结构。研究结果表明,在 闪锌矿 [111]方向 GaSb/InAs核壳纳米线结构中, Zn掺杂外层 InAs形成的空穴态在 无需激发能条件下,利用核壳间的价带带阶,自动从外层注入到内层GaSb纳米线, 提高内部
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