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材料导报 研究篇 年 月 下 第 卷第 期
５４ Ｂ ２０１２ ３ ２６ ３
磁控溅射工艺参数对涤纶织物表面沉积铜膜性能的影响＊
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１ ２ １ ２ １
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孟灵灵 魏取福 黄新民 许凤凤
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１ 江南大学生态纺织教育部重点实验室 无锡 ２１４１２２２ 盐城工学院纺织服装学院 盐城 ２２４０５１
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摘要 在室温条件下采用射频磁控溅射法在涤纶平纹机织物表面沉积纳米 Ｃｕ薄膜 借助原子力显微镜
（ ） 。 、 ，
ＡＦＭ 观察镀膜前后样品表面变化 通过分别改变镀膜时间 溅射功率和气体压强 研究其对样品透光性和导电性
。 ， 。
的影响 实验结果表明 经 镀层处理的涤纶平纹织物对紫外光和可见光的吸收能力明显优于原样 溅射压强增
Ｃｕ
， ， ， ； ， ，
加 透光性能增强 铜膜方块电阻增加 导电性能减弱 镀膜时间延长和溅射功率增加 样品透射率降低 屏蔽紫外线
， ， ，
和可见光效果明显 在溅射时间接近 和溅射功率增加到 后 样品屏蔽效果不明显 铜膜方块电阻随溅射
１５ｍｉｎ １２０Ｗ
， 。
功率增加而减小 导电性能增强
关键词 射频磁控溅射 纳米铜膜 原子力显微镜 透光性 导电性
中图分类号： 文献标识码：
ＴＳ１７４ Ａ
ＩｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆＭａ ｎｅｔｒｏｎＳ ｕｔｔｅｒｉｎ ＰｒｏｃｅｓｓＰａｒａｍｅｔｅｒｓｏｎｔｈｅＰｒｏ ｅｒｔｉｅｓｏｆＣｕＴｈｉｎ
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ＦｉｌｍｓＤｅ ｏｓｉｔｅｄｏｎｔｈｅＳｕｒｆａｃｅｏｆＰｏｌｅｓｔｅｒＰｌａｉｎＷｅａｖｅＦａｂｒｉｃ
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