高透过率液晶显示拼接墙的设计与开发.PDF

第 卷 第 期 液晶与显示 ３３ 　 ３ 　　 Vol．３３　No．３ 　 　　　　 　　　　　　ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas 年 月 q y p y ２０１８ ３ 　 　 　 Mar．２０１８ 文章编号: ( ) １００７Ｇ２７８０２０１８０３Ｇ０２０２Ｇ０６ 高透过率液晶显示拼接墙的设计与开发 ∗ , , , 李 洪 柴慧平 徐松嵩 杨 康 　 　 ( , ) 天马微电子股份有限公司 先进技术研究院 上海 ２０１２０１ : , , , 摘要 为了实现高透过率液晶显示拼接墙 提高对外界光源的透过率 同时减少拼接缝隙 进行了透明液晶显示模组的设 . , , , ; , , 计和开发 为增加透过率 首先 在像素设计方面 优化走线设计提高开口率 其次 在彩膜特性方面 采用减薄色阻方法 , ; , , , 优化透过谱 搭配高透率偏光片 最后 在像素排布方面 选择了 的像素设计 其中 像素数量占总像素数量的 RGBW W , , . , , 实验得到透过率为 为 的模组 为减少显示拼接墙的拼接缝隙 单个显示模组的栅极电路驱动 ５０％ １９．４％ NTSC ３０％ ( ) , . , 采用栅集成电路 设计 实现了 窄边框 由于透过率和窄边框的要求 模组需要实现 和 的显 GOA ２．５mm RGBW GOA , , , . 示驱动 在 FPGA上编写控制程序 进行驱动时序控制和算法处理 最终制作了１６×２排布的高透过率液晶显示拼接墙 : ; ; ; 关 键 词 透明液晶显示 彩膜 　 　 RGBW FPGA 中图分类号: ; 文献标识码: : / TN１４１．９TN４７　　 A　　doi１０．３７８８YJYX０２０２ Desinanddevelomentofhih g p g